The present invention relates to a two-zone heating element which is embedded in a ceramic heater, the two-zone heating element comprising: first and second heating parts which can be independently controlled by a power supply device; a first non-heating part which is disposed between first and second sub-heating portions constituting the first heating part and electrically connects the first and second sub-heating portions to each other; and a second non-heating part which is disposed between the second heating part and a first electrode terminal and electrically connects the second heating part and the first electrode terminal to each other.
H05B 3/28 - Éléments chauffants ayant une surface s'étendant essentiellement dans deux dimensions, p. ex. plaques chauffantes non flexibles le conducteur chauffant enrobé dans un matériau isolant
H05B 1/02 - Dispositions de commutation automatique spécialement adaptées aux appareils de chauffage
H05B 3/18 - Éléments chauffants caractérisés par la composition ou la nature des matériaux ou par la disposition du conducteur le conducteur étant enrobé dans un matériau isolant
Provided is a ceramic heater. The ceramic heater includes a disk-shaped plate and a heating element embedded in the plate. A portion of the heating element is a coiled wire, and another portion of the heating element is a non-coiled wire. The non-coiled wire is arranged in a central portion of the plate.
H05B 3/28 - Éléments chauffants ayant une surface s'étendant essentiellement dans deux dimensions, p. ex. plaques chauffantes non flexibles le conducteur chauffant enrobé dans un matériau isolant
H05B 3/08 - Éléments chauffants combinés constructivement avec des éléments d'accouplement ou avec des supports ayant des connexions électriques adaptées spécialement aux températures élevées
H05B 3/18 - Éléments chauffants caractérisés par la composition ou la nature des matériaux ou par la disposition du conducteur le conducteur étant enrobé dans un matériau isolant
The present disclosure relates to a method for manufacturing a ceramic heater. The method for manufacturing a ceramic heater according to the present disclosure comprises: separately charging a ceramic powder into a center portion and multiple split edge portions in a formation mold and leveling the charged ceramic powder; manufacturing a molded body or pre-sintered body of the ceramic powder from the leveled ceramic powder; disposing a high-frequency electrode or a heating element on the molded body or pre-sintered body of the ceramic powder and filling a second ceramic powder; and integrally sintering the molded body or pre-sintered body of the ceramic powder and the second ceramic powder.
C04B 37/02 - Liaison des articles céramiques cuits avec d'autres articles céramiques cuits ou d'autres articles, par chauffage avec des articles métalliques
H05B 3/14 - Éléments chauffants caractérisés par la composition ou la nature des matériaux ou par la disposition du conducteur caractérisés par la composition ou la nature du matériau conducteur le matériau étant non métallique
Disclosed is a ceramic susceptor. The ceramic susceptor may include: an insulating plate in which one or more electrodes are arranged; a hollow shaft with one end connected to the insulating plate; and one or more electrode rods connected to the electrodes. The hollow shaft may include one or more side wall holes penetrating an interior of a side wall, and the one or more electrode rods may include one or more first electrode rods, each of which is electrically connected to a first electrode among the one or more electrodes. The first electrode rods may extend through the side wall holes, respectively.
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
H05B 3/14 - Éléments chauffants caractérisés par la composition ou la nature des matériaux ou par la disposition du conducteur caractérisés par la composition ou la nature du matériau conducteur le matériau étant non métallique
5.
SUSCEPTOR MANUFACTURING METHOD AND SUSCEPTOR MANUFACTURED BY METHOD
The present invention relates to a susceptor manufacturing method and a susceptor manufactured by the method. The susceptor manufacturing method of the present invention comprises the steps of: arranging a fluid stopper at an end portion of a gas flow path that extends to a gas hole of an insulating plate; inserting a bushing into a through hole of the fluid stopper; forming a bonding layer to a height less than or equal to the height of an end portion of the bushing; and bonding a base substrate on the bonding layer, the base substrate being arranged such that at least one side of the bushing is in contact with the inside of a gas flow path of the base substrate, wherein the height of the bonding layer is pressed to be less than or equal to the height of the fluid stopper during the bonding.
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
6.
Susceptor For High Temperature Semiconductor Process
The present disclosure provides a susceptor. The susceptor includes: a base member including a first cooling gas flow path configured to introduce a cooling gas; a thermal insulation member having a thermal conductivity of 20 W/mK or less, the thermal insulation member including a second cooling gas flow path in communication with the first cooling gas flow path and being stacked on the base member; and an insulating plate stacked on the thermal insulation member, the insulating plate including a plurality of gas holes in communication with the second cooling gas flow path and configured to discharge the cooling gas to cool a substrate.
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
Disclosed is a ceramic susceptor. The susceptor of the present disclosure may include an insulating plate in which a heating element is disposed, and a shaft joined to a bottom portion of the insulating plate. The heating element may include a first heating element pattern including a first resistance section and a first connecting section connected between a first pair of terminals. When the first resistance section is projected onto a plane of the insulating plate, the first resistance section may include a first central resistance section disposed within a smaller diameter region than a joint portion between the insulating plate and the shaft.
H05B 3/14 - Éléments chauffants caractérisés par la composition ou la nature des matériaux ou par la disposition du conducteur caractérisés par la composition ou la nature du matériau conducteur le matériau étant non métallique
H05B 1/02 - Dispositions de commutation automatique spécialement adaptées aux appareils de chauffage
The present disclosure relates to a ceramic susceptor including a ceramic plate having an electrode disposed thereon, wherein the ceramic plate may include an electrode pad connected to the electrode and an electrode rod having one end connected to the electrode pad to supply power to the electrode, and the electrode rod may include an extension part connected to the electrode pad and a power connection part provided at an end of a tapered portion of the extension part.
H01J 37/32 - Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
C04B 35/58 - Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur compositionCompositions céramiquesTraitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques à base de non oxydes à base de borures, nitrures ou siliciures
C04B 35/581 - Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur compositionCompositions céramiquesTraitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques à base de non oxydes à base de borures, nitrures ou siliciures à base de nitrure d'aluminium
The present disclosure relates to a ceramic susceptor including a ceramic plate having an electrode disposed thereon, wherein the ceramic plate may include an electrode pad connected to the electrode and an electrode rod having one end connected to the electrode pad to supply power to the electrode, and the electrode rod may include an extension part connected to the electrode pad and a power connection part provided at an end of a tapered portion of the extension part.
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
H01T 23/00 - Appareils pour la production d'ions destinés à être introduits dans des gaz à l'état libre, p. ex. dans l'atmosphère
Disclosed is a susceptor including a purge gas channel for supplying purge gas. The present disclosure provides a susceptor including: a plate having a heating element layer embedded therein; and a hollow shaft joined to a bottom of the plate, wherein the plate includes a purge gas channel layer disposed on a plane different from that of the heating element layer, and the purge gas channel layer includes an internal channel and multiple radial branch channels extending outward from the internal channel.
H01L 21/68 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le positionnement, l'orientation ou l'alignement
B25B 11/00 - Porte-pièces ou dispositifs de mise en position non couverts par l'un des groupes , p. ex. porte-pièces magnétiques, porte-pièces utilisant le vide
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
Disclosed is a ceramic heater. The ceramic heater includes a plate including a heating element and a first passage, and a shaft having a hollow portion. The heating element includes a plurality of concentric arc portions and a plurality of connecting portions connecting the arc portions. The plurality of connecting portions are spaced apart and face each other to form a separation area that extends in a radial direction of the plate, and the first passage is formed adjacent to the separation area.
H05B 3/28 - Éléments chauffants ayant une surface s'étendant essentiellement dans deux dimensions, p. ex. plaques chauffantes non flexibles le conducteur chauffant enrobé dans un matériau isolant
H05B 3/02 - Chauffage par résistance ohmique Détails
An embodiment of the present disclosure provides a ceramic heater including a plate having a heat-generation body and a first passage, a shaft having a hollow, and a thermocouple inserted into the first passage, wherein the first passage includes an A-th passage part parallel with a first surface of the plate and a B-th passage part inclined with respect to the first surface. Furthermore, an embodiment of the present disclosure provides a ceramic heater including a plate having a heat-generation body and a first passage, a shaft having a hollow, and a thermocouple inserted into the first passage, wherein the first passage includes an A-th passage part parallel with an upper surface of the plate, and a C-th passage part disposed between the A-th passage part and an upper end portion of the shaft and gradually narrowing from the upper end portion of the shaft to the A-th passage.
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
H05B 3/28 - Éléments chauffants ayant une surface s'étendant essentiellement dans deux dimensions, p. ex. plaques chauffantes non flexibles le conducteur chauffant enrobé dans un matériau isolant
The present disclosure relates to a susceptor, and a susceptor of the present disclosure may improve temperature uniformity over the entire area of the upper surface of the susceptor by arranging a heater pattern of a multilayer structure so that arcs thereof do not overlap or so that the straight sections of the heater are arranged at different angles with respect to the center in different layers, or by arranging the straight sections of the heater at different angles with respect to the center even in a heater pattern of a single-layer structure.
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
H05B 3/14 - Éléments chauffants caractérisés par la composition ou la nature des matériaux ou par la disposition du conducteur caractérisés par la composition ou la nature du matériau conducteur le matériau étant non métallique
H05B 3/18 - Éléments chauffants caractérisés par la composition ou la nature des matériaux ou par la disposition du conducteur le conducteur étant enrobé dans un matériau isolant
14.
CERAMIC SUSCEPTOR AND METHOD OF MANUFACTURING SAME
The present disclosure relates to a ceramic susceptor and a method of manufacturing the same. The ceramic susceptor includes: a base substrate having a gas flow path configured to supply cooling gas; an insulating plate fixed on the base substrate and having a gas hole; and a pore structure to allow the gas flow path and the gas hole to communicate with each other between the base substrate and the insulating plate, the pore structure including a support fixed to a groove of the base substrate and having a communication hole configured to communicate with the gas flow path, a porous filter embedded between the communication hole and the gas hole on the support, and a fluid stopper disposed on an outer side surface of the support.
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
C23C 16/458 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour supporter les substrats dans la chambre de réaction
C23C 16/46 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour le chauffage du substrat
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
Disclosed is a ceramic susceptor. The ceramic susceptor may include: an insulating plate having an electrode disposed thereon; a base body bonded to the insulating plate and having a purge flow path; a hollow shaft bonded to the base body and having at least one first through hole in a side wall thereof, wherein the at least one first through hole is in communication with the purge flow path; and a power supply rod connected to the electrode and extending through an internal space of the hollow shaft. The purge flow path may include: a calibration hole for flow path correction; a calibration flow path extending from the at least one first through hole to the calibration hole; and at least one flow path extending from the calibration hole to an edge.
C23C 16/458 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour supporter les substrats dans la chambre de réaction
C23C 16/44 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement
The present invention provides a susceptor comprising: a base member; and a dielectric plate adhered to the base member by means of an adhesive layer, wherein the base member is a metal-ceramic composite, and a thermal expansion coefficient ratio of the metal-ceramic composite to a ceramic material of the dielectric plate is less than 1.5 in the entire temperature range of -100℃ to 200℃.
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
C04B 37/00 - Liaison des articles céramiques cuits avec d'autres articles céramiques cuits ou d'autres articles, par chauffage
Disclosed is to a ceramic susceptor. The ceramic susceptor of the present disclosure may include: a base substrate having a gas flow path configured to supply cooling gas; an insulating plate fixed on the base substrate and having a gas hole penetrating the insulating plate in the thickness direction thereof; and a discharge prevention pin inserted into the gas hole and extending in the length direction of the gas hole.
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
18.
Ceramic susceptor and method of manufacturing same
The present disclosure relates to a ceramic susceptor. In a method of manufacturing a base body of a ceramic susceptor of the present disclosure, which includes a lower plate and an upper plate, which are each made of a metal-ceramic composite and bonded to each other, the method includes: sequentially laminating a first active metal layer, a first aluminum layer, and a brazing filler layer on a bonding surface of the upper plate; sequentially laminating a second active metal layer and a second aluminum layer on a bonding surface of the lower plate; and brazing-bonding the lower plate and the upper plate with the brazing filler layer.
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
B32B 15/04 - Produits stratifiés composés essentiellement de métal comprenant un métal comme seul composant ou comme composant principal d'une couche adjacente à une autre couche d'une substance spécifique
B32B 15/20 - Produits stratifiés composés essentiellement de métal comportant de l'aluminium ou du cuivre
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
19.
Cryogenic susceptor and electric connector assembly used therein
Disclosed is a susceptor which can operate with durability, even at a low or cryogenic temperature. The present invention provides a susceptor characterized by comprising: a base member; a ceramic plate having electrodes on the base member; and an electrode connector assembly for applying power to the electrodes of the ceramic plate through the base member. The electrode connector assembly comprises: a first connector terminal which is the end in contact with the electrodes; a second connector terminal which is the end where power is input; and a connector rod connecting the first connector terminal and the second connector terminal.
H01T 23/00 - Appareils pour la production d'ions destinés à être introduits dans des gaz à l'état libre, p. ex. dans l'atmosphère
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
20.
SUSCEPTOR MANUFACTURING METHOD AND SUSCEPTOR MANUFACTURED BY THE SAME
The present disclosure relates to a method of manufacturing a susceptor. The present disclosure may provide a method of manufacturing a susceptor in which a cap-type bushing structure or tube structure is applied to a bonding structure of a base substrate and an insulating plate, so that the bonding structure can withstand or prevent the increase in pressure inside a gas flow path during a curing process, thereby preventing clogging of a gas hole in a high-power susceptor or the like for a high aspect ratio contact (HARC) processes, and minimizing the occurrence of arcing by reducing contamination around the gas hole. In addition, the present disclosure may also provide a susceptor manufactured by the method.
C23C 16/458 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour supporter les substrats dans la chambre de réaction
The present disclosure relates to a method of manufacturing a susceptor. The present disclosure may provide a method of manufacturing a susceptor in which a cap-type bushing structure or tube structure is applied to a bonding structure of a base substrate and an insulating plate, so that the bonding structure can withstand or prevent the increase in pressure inside a gas flow path during a curing process, thereby preventing clogging of a gas hole in a high-power susceptor or the like for a high aspect ratio contact (HARC) processes, and minimizing the occurrence of arcing by reducing contamination around the gas hole. In addition, the present disclosure may also provide a susceptor manufactured by the method.
The present invention relates to a ceramic susceptor. A method of manufacturing the ceramic susceptor of the present disclosure May include steps of: manufacturing a plurality of ceramic sheets each including a via hole and a conductor filling the via hole; stacking the plurality of ceramic sheets; and sintering the stack body obtained by the stacking. In the stacking step, the via hole in at least one ceramic sheet among the plurality of ceramic sheets may be disposed not to overlap the via hole in another ceramic sheet adjacent thereto.
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
B32B 3/26 - Produits stratifiés comprenant une couche ayant des discontinuités ou des rugosités externes ou internes, ou une couche de forme non planeProduits stratifiés comprenant une couche ayant des particularités au niveau de sa forme caractérisés par une couche continue dont le périmètre de la section droite a une allure particulièreProduits stratifiés comprenant une couche ayant des discontinuités ou des rugosités externes ou internes, ou une couche de forme non planeProduits stratifiés comprenant une couche ayant des particularités au niveau de sa forme caractérisés par une couche comportant des cavités ou des vides internes
B32B 18/00 - Produits stratifiés composés essentiellement de céramiques, p. ex. de produits réfractaires
C04B 37/00 - Liaison des articles céramiques cuits avec d'autres articles céramiques cuits ou d'autres articles, par chauffage
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
The present disclosure relates to a ceramic susceptor, and the ceramic susceptor according to the present disclosure includes: an insulation plate on which an electrode is disposed; a shaft connected to the insulation plate; and a power supply rod connected to the electrode and extending through an inner space of the shaft, wherein the insulation plate includes a first through-passage formed through the upper surface and the lower surface thereof and configured to communicate the inner space of the shaft therewith.
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
H01J 37/32 - Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
H01T 23/00 - Appareils pour la production d'ions destinés à être introduits dans des gaz à l'état libre, p. ex. dans l'atmosphère
The present disclosure provides a susceptor including a base member and an electrostatic chuck plate bonded to the base member by an adhesive layer, wherein the adhesive layer includes a plurality of spacers made of a first elastomer, and an adhesive made of a second elastomer, the adhesive filling a space between the spacers and bonding the base material and the electrostatic chuck plate to each other.
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
Provided is a ceramic susceptor, which includes a ceramic plate with a radio-frequency electrode disposed therein, wherein the ceramic plate includes a connector connected to the radio-frequency electrode, the ceramic susceptor includes a rod having one end connected to the connector to supply power to the radio-frequency electrode, and the rod employs Mo, W, or an alloy thereof as a base material and includes a metal nitride film containing Cr on the surface of the base material.
B32B 18/00 - Produits stratifiés composés essentiellement de céramiques, p. ex. de produits réfractaires
C23C 16/06 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique
C23C 16/458 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour supporter les substrats dans la chambre de réaction
26.
ELECTROSTATIC CHUCK HEATER AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
The present invention relates to an electrostatic chuck heater having a bipolar structure, the electrostatic chuck heater comprising: a heater body having an internal electrode and an external electrode for selectively performing any one of an RF grounding function and an electrostatic chuck function according to a semiconductor process mode; and a heater support mounted below the heater body so as to support the heater body.
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
B28B 11/24 - Appareillages ou procédés pour le traitement ou le travail des objets façonnés pour faire prendre ou durcir
C23C 16/458 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour supporter les substrats dans la chambre de réaction
H05B 6/62 - Appareils pour applications spécifiques
27.
SUBSTRATE HEATING DEVICE CONFIGURED TO SUPPRESS CRACK GENERATION
The present disclosure relates to a substrate heating device capable of effectively suppressing the generation of cracks. The substrate heating device including: a body having a substrate seating element on which a substrate is seated, thereby supporting the substrate; a first heating element positioned in an inner area of the body; a second heating element positioned in an outer area surrounding the inner area of the body; a power transfer wire configured to transfer a current to the second heating element across the inner area of the body; a heater connector configured to supply a current to the power transfer wire; and a connector connecting element connected from the heater connector to the power transfer wire, wherein the connector connecting element is made of molybdenum-tungsten alloy including molybdenum and tungsten.
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
H01R 4/58 - Connexions conductrices de l'électricité entre plusieurs organes conducteurs en contact direct, c.-à-d. se touchant l'un l'autreMoyens pour réaliser ou maintenir de tels contactsConnexions conductrices de l'électricité ayant plusieurs emplacements espacés de connexion pour les conducteurs et utilisant des organes de contact pénétrant dans l'isolation caractérisées par la forme ou le matériau des organes de contact
The present disclosure relates to a ceramic susceptor. The ceramic susceptor of the present disclosure may include a ceramic plate having a heating element disposed thereon and at least one hole. The heating element may include a plurality of concentric circular patterns, each of the concentric circular patterns may include arc portions extending in a circumferential direction and a transverse portion interconnecting the arc portions, and among the arc portions of the plurality of concentric circular patterns, each of the arc portions, which face each other across the hole, may include, in a portion thereof, a protrusion protruding toward the hole.
H05B 3/28 - Éléments chauffants ayant une surface s'étendant essentiellement dans deux dimensions, p. ex. plaques chauffantes non flexibles le conducteur chauffant enrobé dans un matériau isolant
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
The present disclosure relates to a ceramic susceptor. The ceramic susceptor of the present disclosure may include: an insulating plate in which a RF electrode is disposed; a shaft connected to the insulating plate at one end and comprising a separator at a remaining end; a connection mount having an upper portion connected to the remaining end of the shaft; a first rod and a second rod connected to the RF electrode and penetrating the separator to extend into the connection mount; and a connection member disposed in the connection mount and connecting the first rod and the second rod extending into the connection mount to a draw-in rod, wherein the connection member may include an elastic member configured to absorb a difference in deformation due to heat among the first rod, the second rod, and the draw-in rod.
H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
H01J 37/32 - Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
C23C 16/505 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement au moyen de décharges électriques utilisant des décharges à radiofréquence
The present invention relates to a two-zone heating element which is embedded in a ceramic heater, the two-zone heating element comprising: first and second heating parts which can be independently controlled by a power supply device; a first non-heating part which is disposed between first and second sub-heating portions constituting the first heating part and electrically connects the first and second sub-heating portions to each other; and a second non-heating part which is disposed between the second heating part and a first electrode terminal and electrically connects the second heating part and the first electrode terminal to each other.
H05B 3/28 - Éléments chauffants ayant une surface s'étendant essentiellement dans deux dimensions, p. ex. plaques chauffantes non flexibles le conducteur chauffant enrobé dans un matériau isolant
H05B 3/18 - Éléments chauffants caractérisés par la composition ou la nature des matériaux ou par la disposition du conducteur le conducteur étant enrobé dans un matériau isolant
The present disclosure relates to an electrostatic chuck having an efficient cooling structure. The present disclosure provides an electrostatic chuck including a base substrate including a cooling water channel, and a plate configured to support a wafer on the base substrate and including a plate comprising a cooling gas hole configured to supply a cooling gas to the wafer. The base substrate includes a cooling water inlet and a cooling gas inlet in a center thereof, the plate is in communication with the cooling gas inlet of the base substrate and include a cooling gas hole configured to spray a cooling gas to the wafer, and the electrostatic chuck further includes a shaft abutting the base substrate along a circumference of a central portion of the base substrate including the cooling water inlet and the cooling gas inlet.
Disclosed are a susceptor for enabling uniform plasma treatment over the entire surface of a wafer, and a manufacturing method therefor. Provided is the susceptor comprising: a dielectric plate having an upper surface on which a wafer is loaded, and a lower surface facing same; and an inner RF electrode and an outer RF electrode that are buried in the dielectric plate, wherein, with respect to the lower surface, the height of a first plane in which the inner RF electrode is buried is less than the height of a second plane in which the outer RF electrode is buried.
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
The present invention relates to a ceramic heater. The ceramic heater of the present invention comprises: a heater plate in which a heating element is disposed and which is made of a ceramic material; a shaft which has a tubular shape with a through-hole and is coupled to the bottom surface of the heater plate and in which a rod for supplying power to the heating element through the through-hole is received; and a continuous or discontinuous air pocket which is provided in a joint with which the heater plate and the shaft come into contact and by which the heater plate and the shaft are coupled to each other, wherein the air pocket is formed along the joining surface of the joint.
H01L 21/06 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives les dispositifs présentant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement, ou une région de concentration de porteurs de charges les dispositifs ayant des corps semi-conducteurs comprenant du sélénium ou du tellure, sous forme non combinée, et ne constituant pas des impuretés pour les corps semi-conducteurs d'autres matériaux
H01L 21/68 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le positionnement, l'orientation ou l'alignement
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
H05B 3/06 - Éléments chauffants combinés constructivement avec des éléments d'accouplement ou avec des supports
H05B 3/14 - Éléments chauffants caractérisés par la composition ou la nature des matériaux ou par la disposition du conducteur caractérisés par la composition ou la nature du matériau conducteur le matériau étant non métallique
H05B 3/28 - Éléments chauffants ayant une surface s'étendant essentiellement dans deux dimensions, p. ex. plaques chauffantes non flexibles le conducteur chauffant enrobé dans un matériau isolant
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
Disclosed is a method for manufacturing a ceramic susceptor, the method including: preparing ceramic sheets; preparing a lamination structure of a molded body, in which the ceramic sheets are laminated and a conductive metal layer for electrodes is disposed between the ceramic sheet laminated products; and sintering the lamination structure of the molded body, wherein the preparing of the ceramic sheets includes: obtaining a vitrified first additive powder by heat-treating a slurry containing MgO, SiO2, and CaO; preparing a slurry by mixing an Al2O3 powder with the first additive powder, a second additive powder containing a MgO powder, and a third additive powder containing a Y2O3 powder; and forming the ceramic sheets by tape casting the slurry.
C04B 37/02 - Liaison des articles céramiques cuits avec d'autres articles céramiques cuits ou d'autres articles, par chauffage avec des articles métalliques
B28B 11/24 - Appareillages ou procédés pour le traitement ou le travail des objets façonnés pour faire prendre ou durcir
B28B 1/14 - Fabrication d'objets façonnés à partir du matériau par simple coulée, le matériau n'étant ni alimenté sous pression, ni réellement compacté
B28B 1/30 - Fabrication d'objets façonnés à partir du matériau en appliquant le matériau sur un noyau ou une autre surface de moulage pour former une couche sur celle-ci
C04B 35/63 - Préparation ou traitement des poudres individuellement ou par fournées utilisant des additifs spécialement adaptés à la formation des produits
C04B 35/626 - Préparation ou traitement des poudres individuellement ou par fournées
35.
CRYOGENIC SUSCEPTOR AND ELECTRIC CONNECTOR ASSEMBLY USED THEREIN
Disclosed is a susceptor which can operate with durability, even at a low or cryogenic temperature. The present invention provides a susceptor characterized by comprising: a base member; a ceramic plate having electrodes on the base member; and an electrode connector assembly for applying power to the electrodes of the ceramic plate through the base member. The electrode connector assembly comprises: a first connector terminal which is the end in contact with the electrodes; a second connector terminal which is the end where power is input; and a connector rod connecting the first connector terminal and the second connector terminal.
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
H02N 13/00 - Embrayages ou dispositifs de maintien utilisant l'attraction électrostatique, p. ex. utilisant l'effet Johnson-Rahbek
B23Q 3/15 - Dispositifs pour tenir les pièces magnétiquement ou électriquement
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
The present disclosure relates to an electrostatic chuck. The electrostatic chuck according to the present disclosure may include a base substrate; an electrostatic chuck plate fixed on the base substrate, the electrostatic chuck plate having an electrode therein; and an electrode part disposed in a hole in the base substrate to supply power to the electrode, wherein the electrode part may include a housing inserted into the hole in the base substrate, an electrode rod passing through the inner wall of the housing such that one end thereof is in contact with the electrode; and an elastic support body configured to support the electrode rod at multiple points on the inner wall of the housing.
H01T 23/00 - Appareils pour la production d'ions destinés à être introduits dans des gaz à l'état libre, p. ex. dans l'atmosphère
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
H01J 37/32 - Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
37.
Susceptor for high-temperature use having shaft with low thermal conductivity
8 Ω·cm or more at 650° C., and the sintered body of the shaft is an AlN sintered body having a room-temperature thermal conductivity of 100 W/mK or less.
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
H05B 3/14 - Éléments chauffants caractérisés par la composition ou la nature des matériaux ou par la disposition du conducteur caractérisés par la composition ou la nature du matériau conducteur le matériau étant non métallique
38.
SUBSTRATE HEATING APPARATUS WITH ENHANCED TEMPERATURE UNIFORMITY CHARACTERISTIC
The present disclosure discloses a substrate heating apparatus for heating a substrate, wherein the substrate heating apparatus includes: a body including a substrate seating portion on which the substrate is seated, to support the substrate; a first heating element located in an inner region of the body; a second heating element located in an outer region surrounding the inner region; a third heating element configured to transmit current to the second heating element across the inner region of the body; and a connecting member electrically interconnecting the second heating element and the third heating element, wherein the connecting member is made of a molybdenum-tungsten alloy containing molybdenum and tungsten.
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
The present invention relates to a ceramic susceptor. The ceramic susceptor of the present invention comprises a ceramic plate on which a radio frequency electrode is arranged, wherein the ceramic plate comprises a connector connected to the radio frequency electrode and comprises an electrode rod having one end connected to the connector so as to supply electric power to the radio frequency electrode, and the electrode rod uses Mo, W or an alloy thereof as a base material and comprises a metal nitride film on the surface of the base material.
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
H02N 13/00 - Embrayages ou dispositifs de maintien utilisant l'attraction électrostatique, p. ex. utilisant l'effet Johnson-Rahbek
B23Q 3/15 - Dispositifs pour tenir les pièces magnétiquement ou électriquement
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
C23C 16/458 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour supporter les substrats dans la chambre de réaction
H01J 37/32 - Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
40.
ALUMINUM NITRIDE SINTERED BODY AND MEMBER FOR SEMICONDUCTOR MANUFACUTING APPARATUS COMPRISING SAME
An aluminum nitride sintered body contains 1 to 5% by weight of yttrium oxide (Y2O3), 10 to 100 ppm by weight of titanium (Ti), and the balance being aluminum nitride (AlN). Accordingly, a volume resistance value and thermal conductivity at a high temperature are improved, and the generation of impurities during a semiconductor manufacturing process can be suppressed.
H01L 21/324 - Traitement thermique pour modifier les propriétés des corps semi-conducteurs, p. ex. recuit, frittage
C04B 35/581 - Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur compositionCompositions céramiquesTraitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques à base de non oxydes à base de borures, nitrures ou siliciures à base de nitrure d'aluminium
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
The present invention relates to a ceramic heater with improved reliability, the ceramic heater including: a heater body having a mesh type high-frequency electrode, and an electrode rod connecting member being in contact with a lower surface of the high-frequency electrode; and a heater support mounted on a lower portion of the heater body and configured to support the heater body, in which the electrode rod connecting member is in area contact with one surface of the high-frequency electrode.
H05B 3/14 - Éléments chauffants caractérisés par la composition ou la nature des matériaux ou par la disposition du conducteur caractérisés par la composition ou la nature du matériau conducteur le matériau étant non métallique
The present invention relates to a ceramic heater with improved reliability, comprising: a heater body provided with a high-frequency electrode made of a mesh type metal material, and an electrode rod connecting member that contacts the bottom surface of the high-frequency electrode; and a heater support that is mounted below the heater body and supports the heater body, wherein the high-frequency electrode comprises a first electrode member having a wire type mesh structure and a second electrode member having a sheet type mesh structure.
H05B 3/14 - Éléments chauffants caractérisés par la composition ou la nature des matériaux ou par la disposition du conducteur caractérisés par la composition ou la nature du matériau conducteur le matériau étant non métallique
43.
Electrostatic chuck heater and manufacturing method therefor
The present invention relates to an electrostatic chuck heater having a bipolar structure, the electrostatic chuck heater comprising: a heater body having an internal electrode and an external electrode for selectively performing any one of an RF grounding function and an electrostatic chuck function according to a semiconductor process mode; and a heater support mounted below the heater body so as to support the heater body.
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
B28B 11/24 - Appareillages ou procédés pour le traitement ou le travail des objets façonnés pour faire prendre ou durcir
C23C 16/458 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour supporter les substrats dans la chambre de réaction
H05B 6/62 - Appareils pour applications spécifiques
The present disclosure relates to a ceramic susceptor. The ceramic susceptor of the present disclosure includes: an insulating plate on which a high-frequency electrode is disposed; a shaft connected to the insulating plate; a connection mount connected to a longitudinal end of the shaft; a first rod and a second rod, which are connected to the high-frequency electrode, pass through the longitudinal end of the shaft, and extend to the connection mount; and a connection member disposed in the connection mount, wherein the connection member connects the first rod to the second rod.
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
C23C 16/458 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour supporter les substrats dans la chambre de réaction
C23C 16/52 - Commande ou régulation du processus de dépôt
H01J 37/32 - Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
H01T 23/00 - Appareils pour la production d'ions destinés à être introduits dans des gaz à l'état libre, p. ex. dans l'atmosphère
The present invention relates to a ceramic susceptor. The ceramic susceptor of the present invention comprises: an insulating plate having a high-frequency electrode disposed therein; a shaft connected to the insulating plate; a connection mount connected to the longitudinal end of the shaft; a first rod and a second rod connected to the high-frequency electrode, passing through the longitudinal end of the shaft, and extending into the connection mount; and a connection member disposed in the connection mount, wherein the connection member connects the first rod and the second rod to each other.
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
H01J 37/32 - Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
C23C 16/458 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour supporter les substrats dans la chambre de réaction
A bonding head comprises: a base block; an air block arranged on the base block; and a heating block arranged on the air block, and provided to generate heat and heat a chip, wherein the air block cools the heating block while using the air as a medium to suppress the transmission of the heat generated from the heating block to the base block.
The present invention relates to a ceramic heater. The ceramic heater of the present invention comprises: a heater plate in which a heating element or high-frequency electrode is disposed and which is made of a ceramic material and includes an opening, a thread formed at the inner circumferential surface of the opening, and a connector electrically connected to the heating element or high-frequency electrode and embedded in the bottom surface of the opening while being exposed; a support eyelet which is fastened through the thread; and an electrode rod for supplying power to the heating element or high-frequency electrode, the electrode rod comprising a first rod which is coupled to the inner side of the support eyelet and brazed at one end surface thereof to the connector by means of a first conductive filler, and a second rod which is brazed to the other end surface of the first rod by means of a second conductive filler, wherein the gaps between both ends of the support eyelet and the outer circumferential surface of the first rod are sealed by the respective conductive fillers.
H05B 3/08 - Éléments chauffants combinés constructivement avec des éléments d'accouplement ou avec des supports ayant des connexions électriques adaptées spécialement aux températures élevées
H05B 3/18 - Éléments chauffants caractérisés par la composition ou la nature des matériaux ou par la disposition du conducteur le conducteur étant enrobé dans un matériau isolant
H05B 3/28 - Éléments chauffants ayant une surface s'étendant essentiellement dans deux dimensions, p. ex. plaques chauffantes non flexibles le conducteur chauffant enrobé dans un matériau isolant
H05B 1/02 - Dispositions de commutation automatique spécialement adaptées aux appareils de chauffage
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
The present invention relates to a ceramic heater. The ceramic heater of the present invention comprises: a heater plate in which a heating element is disposed and which is made of a ceramic material; a shaft which has a tubular shape with a through-hole and is coupled to the bottom surface of the heater plate and in which a rod for supplying power to the heating element through the through-hole is received; and a continuous or discontinuous air pocket which is provided in a joint with which the heater plate and the shaft come into contact and by which the heater plate and the shaft are coupled to each other, wherein the air pocket is formed along the joining surface of the joint.
H05B 3/06 - Éléments chauffants combinés constructivement avec des éléments d'accouplement ou avec des supports
H05B 1/02 - Dispositions de commutation automatique spécialement adaptées aux appareils de chauffage
H05B 3/68 - Dispositions pour le chauffage spécialement adaptées aux plaques de cuisinière ou aux plaques chaudes analogues
H05B 3/18 - Éléments chauffants caractérisés par la composition ou la nature des matériaux ou par la disposition du conducteur le conducteur étant enrobé dans un matériau isolant
C04B 35/581 - Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur compositionCompositions céramiquesTraitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques à base de non oxydes à base de borures, nitrures ou siliciures à base de nitrure d'aluminium
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
Disclosed are a susceptor for enabling uniform plasma treatment over the entire surface of a wafer, and a manufacturing method therefor. Provided is the susceptor comprising: a dielectric plate having an upper surface on which a wafer is loaded, and a lower surface facing same; and an inner RF electrode and an outer RF electrode that are buried into the dielectric plate, wherein, with respect to the lower surface, the height of a first plane in which the inner RF electrode is buried is less than the height of a second plane in which the outer RF electrode is buried.
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
H02N 13/00 - Embrayages ou dispositifs de maintien utilisant l'attraction électrostatique, p. ex. utilisant l'effet Johnson-Rahbek
B23Q 3/15 - Dispositifs pour tenir les pièces magnétiquement ou électriquement
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
C23C 16/458 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour supporter les substrats dans la chambre de réaction
A ceramic heater includes a heating element, and the ceramic heater is characterized in that connecting portions connecting concentric circumferences of the heating element included in the ceramic heater are formed such that symmetrical axes of pairs of the connecting portions do not pass through a center of the heating element.
H05B 3/06 - Éléments chauffants combinés constructivement avec des éléments d'accouplement ou avec des supports
H05B 3/12 - Éléments chauffants caractérisés par la composition ou la nature des matériaux ou par la disposition du conducteur caractérisés par la composition ou la nature du matériau conducteur
H05B 3/22 - Éléments chauffants ayant une surface s'étendant essentiellement dans deux dimensions, p. ex. plaques chauffantes non flexibles
51.
CERAMIC HEATER FOR INDEPENDENTLY CONTROLLING MIDDLE REGION
The present invention relates to a ceramic heater for independently controlling a middle region, and more specifically, to a ceramic heater comprising: a center-edge heating element provided at a position corresponding to a center region and an edge region of a heating surface of the ceramic heater; and a middle heating element provided at a position corresponding to a middle region which is surrounded by the center region and the edge region of the heating surface of the ceramic heater, and thus the present invention has an effect whereby the respective temperatures of three divided regions may be
H05B 3/28 - Éléments chauffants ayant une surface s'étendant essentiellement dans deux dimensions, p. ex. plaques chauffantes non flexibles le conducteur chauffant enrobé dans un matériau isolant
The present disclosure relates to a method for manufacturing a ceramic heater. The method for manufacturing a ceramic heater according to the present disclosure comprises: separately charging a ceramic powder into a center portion and multiple split edge portions in a formation mold and leveling the charged ceramic powder; manufacturing a molded body or pre-sintered body of the ceramic powder from the leveled ceramic powder; disposing a high-frequency electrode or a heating element on the molded body or pre-sintered body of the ceramic powder and filling a second ceramic powder; and integrally sintering the molded body or pre-sintered body of the ceramic powder and the second ceramic powder.
H05B 3/14 - Éléments chauffants caractérisés par la composition ou la nature des matériaux ou par la disposition du conducteur caractérisés par la composition ou la nature du matériau conducteur le matériau étant non métallique
C04B 37/02 - Liaison des articles céramiques cuits avec d'autres articles céramiques cuits ou d'autres articles, par chauffage avec des articles métalliques
53.
Electrostatic chuck heater and manufacturing method therefor
The present invention relates to an electrostatic chuck heater and a manufacturing method therefor and, more particularly, to an electrostatic chuck heater comprising: a ground electrode; and an electrostatic chuck electrode spaced a predetermined distance apart from the outside of the ground electrode, wherein the heater can reduce the phenomenon of rising of a wafer edge and thus can significantly reduce the temperature deviation according to positions on a heating surface of an object, such as a wafer, so as to increase the temperature uniformity of the heating surface.
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
C23C 16/458 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour supporter les substrats dans la chambre de réaction
H01J 37/32 - Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
Disclosed is an electro static chuck. Disclosed is an electro static chuck which includes: a base substrate; and an electro static chuck plate fixed onto the base substrate and including a plurality of electrodes to which biases for chucking and dechucking are applied, in which the plurality of electrodes includes a spiral pattern extending from a start point of an edge of the electro static chuck plate toward an end point of a center and a rotational angle of the spiral pattern is 360°n (n is a real number of 1 to 2).
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
Disclosed is an electrostatic chuck with a cooling structure using a cooling gas. The electrostatic chuck comprises: an electrostatic chuck plate that includes a plurality of first cooling gas holes formed in a first region and a plurality of second cooling gas holes formed in a second region; and a base member that includes a first flow path pattern connected to the plurality of first cooling gas holes, a second flow path pattern connected to the plurality of second cooling gas holes, and an inlet moving pattern changing a position of an inlet of a cooling gas injected into the first flow path pattern.
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
The present invention relates to a ceramic heater having improved reliability, comprising: a heater body part having a mesh-type high-frequency electrode and an electrode rod connecting member in contact with the lower surface of the high frequency electrode; and a heater support part mounted on the lower portion of the heater body part so as to support the heater body part, wherein the electrode rod connecting member is in surface contact with one surface of the high frequency electrode.
H05B 3/14 - Éléments chauffants caractérisés par la composition ou la nature des matériaux ou par la disposition du conducteur caractérisés par la composition ou la nature du matériau conducteur le matériau étant non métallique
The present invention relates to a ceramic heater with improved reliability, comprising: a heater body part provided with a high frequency electrode formed of a mesh type metal material, and an electrode rod connecting member that contacts the bottom surface of the high frequency electrode; and a heater support part that is mounted below the heater body part and supports the heater body part, wherein the high frequency electrode comprises a first electrode member having a wire type mesh structure and a second electrode member having a sheet type mesh structure.
H05B 3/14 - Éléments chauffants caractérisés par la composition ou la nature des matériaux ou par la disposition du conducteur caractérisés par la composition ou la nature du matériau conducteur le matériau étant non métallique
Disclosed is a ceramic heater and a ceramic plate for a ceramic heater, wherein, in order to prevent crack development at a ceramic surface around an electrode part and thereby improve durability, the end of a support part for an electrode rod is spaced apart from the ceramic surface opposite thereto, and a space for placing a filler mass is provided around the end of the support part for the electrode rod, whereby force or stress applied to the ceramic surface due to the expansion of the support part or by the filler mass is removed.
H05B 3/14 - Éléments chauffants caractérisés par la composition ou la nature des matériaux ou par la disposition du conducteur caractérisés par la composition ou la nature du matériau conducteur le matériau étant non métallique
59.
ELECTROSTATIC CHUCK HEATER AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
The present invention relates to an electrostatic chuck heater having a bipolar structure, the electrostatic chuck heater comprising: a heater body having an internal electrode and an external electrode for selectively performing an RF grounding function and/or an electrostatic chuck function according to a semiconductor process mode; and a heater support mounted below the heater body so as to support the heater body.
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
H02N 13/00 - Embrayages ou dispositifs de maintien utilisant l'attraction électrostatique, p. ex. utilisant l'effet Johnson-Rahbek
B23Q 3/15 - Dispositifs pour tenir les pièces magnétiquement ou électriquement
C23C 16/458 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour supporter les substrats dans la chambre de réaction
The present invention relates to a connection member for a ceramic heater and, more specifically, to a connection member which is included in a ceramic plate so as to electrically connect a power supply member to a molybdenum mesh, wherein the area of one surface of the connection member where the connection member comes into contact with the molybdenum mesh included in the ceramic plate is larger than the area of the other surface of the connection member where the connection member comes into contact with the power supply member. The connection member provided by the present invention has a structural advantage in that when bonding abnormality is checked by pulling the power supply member during a maintenance process of the ceramic heater or when the maintenance work requires separation of the power supply member, the connection member is not separated along with the power supply member, and can be fixed inside the ceramic member while being in contact with the molybdenum mesh.
H05B 3/14 - Éléments chauffants caractérisés par la composition ou la nature des matériaux ou par la disposition du conducteur caractérisés par la composition ou la nature du matériau conducteur le matériau étant non métallique
H05B 3/46 - Éléments chauffants ayant la forme de tiges ou de tubes non flexibles le conducteur chauffant monté sur une base isolante
61.
Aluminum nitride sintered body and member for semiconductor manufacuting apparatus comprising same
3), 10 to 100 ppm by weight of titanium (Ti), and the balance being aluminum nitride (AlN). Accordingly, a volume resistance value and thermal conductivity at a high temperature are improved, and the generation of impurities during a semiconductor manufacturing process can be suppressed.
H01L 21/324 - Traitement thermique pour modifier les propriétés des corps semi-conducteurs, p. ex. recuit, frittage
C04B 35/581 - Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur compositionCompositions céramiquesTraitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques à base de non oxydes à base de borures, nitrures ou siliciures à base de nitrure d'aluminium
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
The present invention relates to a ceramic heater and, more specifically, to a ceramic heater (100) characterized in that connecting portions connecting concentric circumferences of a heating element (400) included in the ceramic heater (100) are formed such that the symmetrical axes of pairs of connecting portions do not pass through the center (420) of the heating element (400). The present invention has the benefit of providing a ceramic heater (100) in which the heating surface of a ceramic plate has improved temperature uniformity as a result of the reduction of a low temperature region of the heating element included in the ceramic heater. In addition, the present invention has the benefit of providing a ceramic heater (100) in which the heating surface of a ceramic plate has improved temperature uniformity by only changing the design of the structure of the connecting portions connecting the concentric circumferences of the heating element (400) without adding an additional device.
H05B 3/28 - Éléments chauffants ayant une surface s'étendant essentiellement dans deux dimensions, p. ex. plaques chauffantes non flexibles le conducteur chauffant enrobé dans un matériau isolant
H05B 3/12 - Éléments chauffants caractérisés par la composition ou la nature des matériaux ou par la disposition du conducteur caractérisés par la composition ou la nature du matériau conducteur
H05B 3/68 - Dispositions pour le chauffage spécialement adaptées aux plaques de cuisinière ou aux plaques chaudes analogues
63.
CERAMIC HEATER FOR INDEPENDENTLY CONTROLLING MIDDLE REGION
The present invention relates to a ceramic heater for independently controlling a middle region, and more specifically, to a ceramic heater comprising: a center-edge heating element provided at a position corresponding to a center region and an edge region of a heating surface of the ceramic heater; and a middle heating element provided at a position corresponding to a middle region which is surrounded by the center region and the edge region of the heating surface of the ceramic heater, and thus the present invention has an effect whereby the respective temperatures of three divided regions may be controlled by two power devices.
H05B 3/28 - Éléments chauffants ayant une surface s'étendant essentiellement dans deux dimensions, p. ex. plaques chauffantes non flexibles le conducteur chauffant enrobé dans un matériau isolant
H05B 1/02 - Dispositions de commutation automatique spécialement adaptées aux appareils de chauffage
H05B 3/18 - Éléments chauffants caractérisés par la composition ou la nature des matériaux ou par la disposition du conducteur le conducteur étant enrobé dans un matériau isolant
64.
Substrate heating apparatus with enhanced temperature uniformity characteristic
The present invention relates to a substrate heating apparatus. More specifically, the present invention relates to a substrate heating apparatus including a first heating element located in an inner region of the substrate heating apparatus, a second heating element located in an outer region, and a third heating element supplying current to the second heating element passing through the inner region, wherein the diameter of a wire constituting the third heating element is thicker than the diameter of a wire constituting the second heating element, thereby inhibiting the generation of an overheating region by the heating of the third heating element.
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
C23C 14/54 - Commande ou régulation du processus de revêtement
C23C 16/46 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour le chauffage du substrat
C23C 16/458 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour supporter les substrats dans la chambre de réaction
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
H05B 3/14 - Éléments chauffants caractérisés par la composition ou la nature des matériaux ou par la disposition du conducteur caractérisés par la composition ou la nature du matériau conducteur le matériau étant non métallique
H05B 3/28 - Éléments chauffants ayant une surface s'étendant essentiellement dans deux dimensions, p. ex. plaques chauffantes non flexibles le conducteur chauffant enrobé dans un matériau isolant
65.
Method of manufacturing multilayer ceramic substrates
In a method of manufacturing a multilayer ceramic substrate, first and second sheet stacks are formed by pressurizing a plurality of unsintered ceramic sheets, respectively. A hole is formed to penetrate through the second sheet stack. A third preliminary sheet stack is formed by positioning the second sheet stack on the first sheet stack. First and second thin films are formed at top and bottom of the third preliminary sheet stack, respectively. A third sheet stack is formed by pressurizing the first and the second thin films and the third preliminary sheet stack. The first and the second thin films are removed from the third sheet stack, thereby forming a preliminary multilayer ceramic substrate. The preliminary multilayer ceramic substrate is sintered. Accordingly, the reliability and stability of the manufacturing process for the multilayer ceramic substrate is sufficiently improved with reduced cost due to the flat molds and thin films.
brevets
