Abrégé

A non-volatile memory structure includes a semiconductor substrate and first and second memory devices on the semiconductor substrate. Each of the first and second memory devices includes a floating gate, a tunnelling insulator under the floating gate, an isolation layer over the floating gate, and at least one of a select gate and a control gate over the isolation layer. The non-volatile memory structure further includes an erase gate shared by the first and second memory devices, a source region under the erase gate, and a shallow trench isolation structure between the erase gate and the source region. The shallow trench isolation structure increases the number of write/erase cycles that can be performed by the non-volatile memory structure.

Classes IPC  ?

• H10B 41/30 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire
• H01L 21/28 - Fabrication des électrodes sur les corps semi-conducteurs par emploi de procédés ou d'appareils non couverts par les groupes
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/788 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à grille flottante

Abrégé

A semiconductor device includes an insulating layer, a first semiconductor layer over the insulating layer, a diffusion break structure between a first active region and a second active region and including a first insulating pattern over the insulating layer and an opening over the first insulating pattern, and a conductive gate material over the opening.

Classes IPC  ?

• H01L 27/12 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant autre qu'un corps semi-conducteur, p.ex. un corps isolant
• H01L 21/84 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant autre chose qu'un corps semi-conducteur, p.ex. étant un corps isolant
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée

Abrégé

The present disclosure relates to semiconductor structures and, more particularly, to silicon controlled rectifiers and methods of manufacture. The structure includes: a plurality of wells of a first conductivity type; a well of a second conductivity type which is different than the first conductivity type; an intrinsic semiconductor region between the well and the plurality of wells; and contacts within the plurality of wells.

Classes IPC  ?

• H01L 29/747 - Dispositifs bidirectionnels, p.ex. triacs
• H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface

Abrégé

A temperature-adaptive gate driver for a GaN switch includes a gate-to-source voltage adjustment unit and a driver for outputting an on-state gate-to-source voltage to a gate terminal of the switch. The on-state gate-to-source voltage is adjusted based, in part, on temperature of the switch. The amount of adjustment of the on-state gate-to-source voltage with rise in temperature is based, in part, on high-temperature gate-bias reliability data of the switch and is chosen for a favorable trade-off between performance and life-time. The gate-to-source voltage adjustment unit includes a temperature sense element for sensing temperature of the switch and outputs to the driver an output signal based, in part, on temperature. The gate-to-source voltage adjustment unit includes a regulator for receiving a feedback signal based in part, on resistance of the temperature sense element, and for causing a value of the output signal to be responsive to a value of the feedback signal.

Classes IPC  ?

• H03K 17/14 - Modifications pour compenser les variations de valeurs physiques, p. ex. de la température

Abrégé

The disclosure provides bipolar transistor structures with a cavity below an extrinsic base, and methods to form the same. A structure of the disclosure provides a bipolar transistor structure including an extrinsic base protruding from an intrinsic base of a bipolar transistor. The extrinsic base extends over a cavity. An insulator is horizontally adjacent the cavity and below a portion of the extrinsic base. A collector extension region of the bipolar transistor structure extends laterally below the insulator and the cavity.

Classes IPC  ?

• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 29/08 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode transportant le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs

Abrégé

Disclosed is a fully depleted semiconductor-on-insulator structure including a buried Nwell in a substrate below P-type and N-type well regions, an insulator layer on the substrate, and mixed threshold voltage transistors on the insulator layer above at least one of the well regions. An Nwell can be connected to receive a positive bias voltage with any NFET and any PFET above being a FBB LVT/SLVT NFET and a RBB RVT/HVT PFET, respectively. A Pwell can be connected to receive another positive bias voltage less than the positive bias voltage on the Nwell with any NFET and any PFET above being a FBB RVT/HVT NFET and a RBB LVT/SLVT PFET, respectively. Additionally, or alternatively, a Pwell can be connected to receive a negative bias voltage with any NFET and any PFET above being a RBB RVT/HVT NFET and a FBB LVT/SLVT PFET, respectively.

Classes IPC  ?

• H01L 27/118 - Circuits intégrés à tranche maîtresse
• H03K 19/20 - Circuits logiques, c.-à-d. ayant au moins deux entrées agissant sur une sortieCircuits d'inversion caractérisés par la fonction logique, p. ex. circuits ET, OU, NI, NON

Abrégé

The present disclosure relates to semiconductor structures and, more particularly, to a high-electron-mobility transistor and methods of manufacture. The structure includes: a semiconductor substrate; at least one insulator film over the semiconductor substrate, the at least one insulator film including a recess; and a field plate extending into the at least one recess and over the at least one insulator film.

Classes IPC  ?

• H01L 29/40 - Electrodes
• H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT

Abrégé

Structures for an optical switch and methods of forming such structures. The structure comprises a first waveguide core including a first portion and a second portion, a second waveguide core including a first portion and a second portion, a ring resonator having a first portion adjacent to the first portion of the first waveguide core and a second portion adjacent to the first portion of the second waveguide core, and an optical coupler coupled to the second portion of first waveguide core and the second portion of the second waveguide core. The first portion of the ring resonator is spaced from the first portion of the first waveguide core by a first gap over a first light coupling region, and the second portion of the ring resonator is spaced from the first portion of the second waveguide core by a second gap over a second light coupling region.

Classes IPC  ?

• G02B 6/35 - Moyens de couplage optique comportant des moyens de commutation

Abrégé

The present disclosure relates to semiconductor structures and, more particularly, to high electron mobility transistors and methods of manufacture. The structure includes: a semiconductor substrate; a gate structure on the semiconductor substrate; a gate metal connecting to the gate structure; and a field plate connected to a source region of the gate structure. The gate metal and the field plate include a same material.

Classes IPC  ?

• H01L 29/40 - Electrodes
• H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT

Abrégé

Disclosed are a pixel and a compact memory-in-pixel display (e.g., implemented in a fully-depleted semiconductor-on-insulator processing technology platform). A block of electronic components for a pixel includes a memory cell array, a driving circuit for an LED, and a logic circuit connected between the memory cell array and driving circuit. The memory cell array is above a Pwell, the driving circuit is above an adjacent Nwell, and the logic circuit includes P-type transistors on the Nwell and N-type transistors on the Pwell. A pixel array is above alternating P and N wells with a single buried Nwell below. Specifically, each column of pixels is above adjacent elongated P and N wells and, within each column, adjacent pixels have mirrored layouts. Furthermore, adjacent columns of pixels are above two elongated wells of one type and a shared elongated well of the opposite type therebetween and the adjacent columns have mirrored layouts.

Classes IPC  ?

• G09G 3/32 - Dispositions ou circuits de commande présentant un intérêt uniquement pour l'affichage utilisant des moyens de visualisation autres que les tubes à rayons cathodiques pour la présentation d'un ensemble de plusieurs caractères, p. ex. d'une page, en composant l'ensemble par combinaison d'éléments individuels disposés en matrice utilisant des sources lumineuses commandées utilisant des panneaux électroluminescents semi-conducteurs, p. ex. utilisant des diodes électroluminescentes [LED]
• G11C 11/419 - Circuits de lecture-écriture [R-W]
• H10B 10/00 - Mémoires statiques à accès aléatoire [SRAM]

Abrégé

A disclosed structure includes a power amplifier and circuitry for implementing a biasing scheme that enables high power operation. The power amplifier includes parallel transistor chains connected to input and output transformers. Each chain includes series-connected first, second, and third n-type field effect transistors (NFETs) having front and back gates. The output transformer receives a variable positive power supply voltage generated using average power tracking. Front and back gates of each third NFET receive a positive bias voltage greater than or equal to the variable positive power supply voltage and a negative bias voltage, respectively. By negative back biasing the third NFETs, threshold voltages thereof are raised so a high positive bias voltage can be applied to the front gates to increase power output without violating reliability specifications. Optionally, by making the negative bias voltage temperature dependent, voltages at source regions of the third NFETs are held constant.

Classes IPC  ?

• H03F 1/30 - Modifications des amplificateurs pour réduire l'influence des variations de la température ou de la tension d'alimentation
• H03F 3/21 - Amplificateurs de puissance, p. ex. amplificateurs de classe B, amplificateur de classe C comportant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs

Abrégé

The disclosure provides a structure including a silicon carbide (SiC) channel horizontally between a source and a drain drift region. The SiC channel has opposite doping from the source and the drain drift region. A capping semiconductor is on the SiC channel and is horizontally between the source and the drain drift region. The capping semiconductor includes a semiconductor having a higher charge carrier mobility than the SiC channel. A gate structure is on the capping semiconductor.

Classes IPC  ?

• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 29/08 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode transportant le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 29/16 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, mis à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, seulement des éléments du groupe IV de la classification périodique, sous forme non combinée
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/808 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une jonction PN ou une autre jonction redresseuse à jonction PN

Abrégé

A differential power amplifier circuit, including: a first differential power amplifier including first and second cross-coupled neutralization capacitors; and a second differential power amplifier, coupled in parallel with the first differential power amplifier, including a plurality of multi-gate transistors.

Classes IPC  ?

• H03F 3/45 - Amplificateurs différentiels
• H03F 1/22 - Modifications des amplificateurs pour réduire l'influence défavorable de l'impédance interne des éléments amplificateurs par utilisation de couplage dit "cascode", c.-à-d. étage avec cathode ou émetteur à la masse suivi d'un étage avec grille ou base à la masse respectivement
• H03F 3/21 - Amplificateurs de puissance, p. ex. amplificateurs de classe B, amplificateur de classe C comportant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs

Abrégé

The present disclosure relates to semiconductor structures and, more particularly, to quantum dot structures and methods of manufacture. The structure includes: a plurality of barrier gates; a plurality of spin qubit gates interdigitated with the plurality of barrier gates; and access gates on opposing sides of the plurality of barrier gates.

Classes IPC  ?

• H10N 60/10 - Dispositifs à base de jonctions
• H10N 60/01 - Fabrication ou traitement

Abrégé

Structures for a power splitter that include a multimode interference coupler and methods of forming such structures. The structure comprises a multimode interference coupler including a grating having a plurality of grating lines, an input waveguide core, and an output waveguide core. The grating lines are disposed between the input waveguide core and the output waveguide core. The structure further comprises a resistive heating element adjacent to the grating lines.

Classes IPC  ?

• G02F 1/21 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur par interférence
• G02F 1/01 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
• G02F 1/225 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur par interférence dans une structure de guide d'ondes optique

Abrégé

A disclosed non-volatile memory (NVM) structure is implemented in a fully depleted semiconductor-on-insulator technology processing platform and includes multiple NVM banks with NVM cells including transistors. NVM banks have well regions in a substrate. Transistors of NVM cells of each NVM bank are on an insulator layer above a corresponding well region for that bank. A bias control circuit causes well regions for NVM banks in a standby state to be biased with a reverse back biasing voltage and causes a well region for an NVM bank in an operational state to be biased with a forward back biasing voltage. The bias control circuit can initiate forward back biasing during a cache data retrieval process (before NVM bank access) to ensure that the corresponding well region of an NVM bank at issue is fully biased when, following the cache data retrieval process, access to the NVM bank is still required.

Classes IPC  ?

• H10B 61/00 - Dispositifs de mémoire magnétique, p. ex. dispositifs RAM magnéto-résistifs [MRAM]
• G11C 11/4074 - Circuits d'alimentation ou de génération de tension, p. ex. générateurs de tension de polarisation, générateurs de tension de substrat, alimentation de secours, circuits de commande d'alimentation
• G11C 11/412 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments électriques utilisant des dispositifs à semi-conducteurs utilisant des transistors formant des cellules avec réaction positive, c.-à-d. des cellules ne nécessitant pas de rafraîchissement ou de régénération de la charge, p. ex. multivibrateur bistable, déclencheur de Schmitt utilisant uniquement des transistors à effet de champ
• G11C 11/56 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments d'emmagasinage comportant plus de deux états stables représentés par des échelons, p. ex. de tension, de courant, de phase, de fréquence

Abrégé

Structures including an electro-optic bridge chip and methods of forming such structures. The structure comprises a photonics chip and an electro-optic bridge chip on a package substrate. The electro-optic bridge chip includes a waveguide core and an electrical trace line. A portion of the waveguide core is coupled to an optical coupler of the photonics chip.

Classes IPC  ?

• H01L 23/538 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre la structure d'interconnexion entre une pluralité de puces semi-conductrices se trouvant au-dessus ou à l'intérieur de substrats isolants
• G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
• G02B 6/122 - Éléments optiques de base, p. ex. voies de guidage de la lumière
• G02B 6/43 - Dispositions comprenant une série d'éléments opto-électroniques et d'interconnexions optiques associées
• H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H01L 23/498 - Connexions électriques sur des substrats isolants
• H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans une seule des sous-classes , , , , ou , p. ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe

Abrégé

The present disclosure relates to semiconductor structures and, more particularly, to bipolar transistors and methods of manufacture. The structure includes: a collector; a base region above the collector; an emitter laterally connecting to the base region; and an extrinsic base connecting to the base region.

Classes IPC  ?

• H01L 29/737 - Transistors à hétérojonction
• H01L 29/201 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV comprenant plusieurs composés
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs

Abrégé

A system and computerized method verify product custody along a product manufacturing chain. The method may include verifying a first machine-readable (MR) code for a product level N is valid by comparing the first MR code to a database of valid MR codes. Where the first MR code for the product level N is verified as valid, a second, valid MR code is generated for a next product level N+1 in the database of valid MR codes. In addition, the first MR code for the product level N in the database of valid MR codes is invalidated, so it cannot be used again. The second MR code is formed for use with the next product level N+1, e.g., by the downstream product manufacturer. Custody of product levels along a manufacturing chain can be verified and secured, avoiding bad actors from inserting and profiting from fake parts into the manufacturing chain.

Classes IPC  ?

• G06Q 30/018 - Certification d’entreprises ou de produits
• G06K 7/14 - Méthodes ou dispositions pour la lecture de supports d'enregistrement par radiation électromagnétique, p. ex. lecture optiqueMéthodes ou dispositions pour la lecture de supports d'enregistrement par radiation corpusculaire utilisant la lumière sans sélection des longueurs d'onde, p. ex. lecture de la lumière blanche réfléchie

Abrégé

Photonic structures including multiple input/output optical couplers and methods of forming such photonic structures. The photonic structure comprises a light source and a photonics chip including a semiconductor substrate. The photonic structure further comprises a first mirror disposed at a first height relative to a top surface of the semiconductor substrate and a second mirror disposed at a second height relative to the top surface of the semiconductor substrate. The first mirror is configured to reflect first light from the light source to the photonics chip, and the second mirror is configured to reflect second light from the light source to the photonics chip. The first mirror is disposed between the second mirror and the light source, and the second height is different from the first height.

Classes IPC  ?

• G02B 6/42 - Couplage de guides de lumière avec des éléments opto-électroniques
• G02B 6/02 - Fibres optiques avec revêtement

Abrégé

A structure according to the disclosure includes a dielectric layer over a substrate and horizontally between a gate terminal and a source/drain (S/D) terminal. The dielectric layer has a first surface proximal to the substrate and a second surface opposite the first surface. The dielectric layer has a plurality of recesses in the second surface. At least some of the plurality of recesses have different depths. A conductive field plate includes a metal layer on the second surface and within the plurality of recesses. The conductive field plate is electrically isolated from the gate terminal and the S/D terminal.

Classes IPC  ?

• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
• H01L 29/40 - Electrodes
• H01L 29/417 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative transportant le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT

Abrégé

An electrostatic discharge (ESD) protection circuit includes a silicon controlled rectifier. The silicon controlled rectifier includes a first well of a first conductivity type in a substrate, and a first doped region of a second conductivity type and a first tap region of the first conductivity type in the first well. The second conductivity type has an opposite polarity to the first conductivity type. The first doped region is coupled to a first pad. The first tap region is coupled to a second pad through a resistor external to the silicon controlled rectifier.

Classes IPC  ?

• H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
• H01L 29/87 - Diodes thyristor, p.ex. diodes Shockley, diodes à retournement

Abrégé

The present disclosure relates to semiconductor structures and, more particularly, to nanosheet transistor structures with a bottom epitaxial semiconductor material and methods of manufacture. The structure includes: a plurality of stacked semiconductor nanosheets; a plurality of gate structures surrounding individual semiconductor nanosheets of the plurality of semiconductor nanosheets; a first semiconductor material of a first conductivity type at source/drain regions of the plurality of gate structures; and a second semiconductor material of a second conductivity type above the first semiconductor material, the first conductivity type being different than the second conductivity type.

Classes IPC  ?

• H01L 29/08 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode transportant le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/775 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à une dimension, p.ex. FET à fil quantique
• H01L 29/786 - Transistors à couche mince

Abrégé

1/2.

Classes IPC  ?

• H03B 5/12 - Éléments déterminant la fréquence comportant des inductances ou des capacités localisées l'élément actif de l'amplificateur étant un dispositif à semi-conducteurs
• H03B 5/04 - Modifications du générateur pour compenser des variations dans les grandeurs physiques, p. ex. alimentation, charge, température
• H03B 5/36 - Production d'oscillation au moyen d'un amplificateur comportant un circuit de réaction entre sa sortie et son entrée l'élément déterminant la fréquence étant un résonateur électromécanique un résonateur piézo-électrique l'élément actif de l'amplificateur comportant un dispositif semi-conducteur

Abrégé

Embodiments of the disclosure provide a structure and related method for a gate over semiconductor regions that are not aligned. Structures according to the disclosure include a first semiconductor region extending from a first widthwise end to a second widthwise end within a substrate. A second semiconductor region is adjacent the first semiconductor region and extends from a first widthwise end to a second widthwise end within the substrate. The second widthwise end of the second semiconductor region is non-aligned with the second widthwise end of the first semiconductor region. A gate structure is over the substrate and extends widthwise over the first semiconductor region and the second semiconductor region.

Classes IPC  ?

• H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs

Abrégé

Structures for a co-packaged photonics chip and electronic chip, and associated methods. The structure comprises a layer comprising a molding compound, an electronic chip and a photonics chip affixed in the layer, and a waveguiding structure including a waveguide core adjacent to the photonics chip. The photonics chip includes an optical coupler, the waveguide core includes a portion that overlaps with the optical coupler, and the waveguide core comprises a polymer.

Classes IPC  ?

• G02B 6/122 - Éléments optiques de base, p. ex. voies de guidage de la lumière
• G02B 6/13 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication
• H01L 21/56 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements
• H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H01L 25/16 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant de types couverts par plusieurs des sous-classes , , , , ou , p. ex. circuit hybrides

Abrégé

Photonics chip structures including a reflector and methods of forming such structures. The photonics chip structure comprises a first waveguide core, a second waveguide core adjacent to the first waveguide core, and a reflector including a plurality of metal contacts over a portion of the first waveguide core. The second waveguide core is configured to couple light to the first waveguide core, and the metal contacts are configured to reflect the light.

Classes IPC  ?

• G02B 6/122 - Éléments optiques de base, p. ex. voies de guidage de la lumière
• G02B 6/13 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication

Abrégé

A disclosed flip-flop includes primary and secondary sections connected to switchable and continuous power supplies, respectively. The primary section includes logic outputting first control signals, a primary latch controlled by the first control signals, and a data output device connected to an output terminal of the primary latch. The secondary section includes logic outputting second control signals and a secondary latch. A first transmission gate controlled by the second control signals is connected between the output terminal of the primary latch and an input terminal of the secondary latch. A second transmission gate controlled by the first and second control signals is connected between output and input terminals of the secondary latch. In a normal mode, both sections receive power and the first transmission gate is conductive. In a retention mode, the primary section is powered down, the first transmission gate is non-conductive and the second transmission gate is conductive.

Classes IPC  ?

• H03K 3/037 - Circuits bistables
• H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires

Abrégé

A static random access memory (SRAM) cell includes P-type and N-type transistors having secondary gates. A node connected to all secondary gates receives a write enable signal (WEN). A low WEN forward biases the P-type transistors and increases the toggle threshold voltage (Vtth) of the SRAM cell to avoid data switching during a read. A high WEN forward biases the N-type transistors and decreases Vtth during a write. The SRAM cell can be implemented using a fully depleted semiconductor-on-insulator technology, where the secondary gates include corresponding portions of a well region below. In this case, an array of SRAM cells can be above a single well region. Alternatively, the array can be sectioned into sub-arrays above different well regions and a decoder can output sub-array-specific WENs to the different well regions (e.g., with only one WEN being high at a given time to reduce capacitance).

Classes IPC  ?

• G11C 11/412 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments électriques utilisant des dispositifs à semi-conducteurs utilisant des transistors formant des cellules avec réaction positive, c.-à-d. des cellules ne nécessitant pas de rafraîchissement ou de régénération de la charge, p. ex. multivibrateur bistable, déclencheur de Schmitt utilisant uniquement des transistors à effet de champ
• G11C 11/419 - Circuits de lecture-écriture [R-W]
• H10B 10/00 - Mémoires statiques à accès aléatoire [SRAM]

Abrégé

Structures including a wide band-gap semiconductor layer stack and methods of forming such structures. The structure comprises a layer stack on a substrate and a first dielectric layer on the layer stack. The layer stack includes semiconductor layers that comprise a wide band-gap semiconductor material. A seal ring includes a trench that penetrates through the first dielectric layer and the layer stack to the substrate, a second dielectric layer that lines the trench, and a conductor layer including first and second portions inside the trench. The trench surrounds portions of the layer stack and the first dielectric layer. The second dielectric layer includes a first portion disposed between the first portion of the conductor layer and the portion of the layer stack, and the second dielectric layer includes a second portion disposed between the second portion of the conductor layer and the portion of the first dielectric layer.

Classes IPC  ?

• H01L 23/58 - Dispositions électriques structurelles non prévues ailleurs pour dispositifs semi-conducteurs
• H01L 23/31 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements caractérisées par leur disposition

Abrégé

The present disclosure relates to semiconductor structures and, more particularly, to a transistor with a thermal plug and methods of manufacture. The structure includes: a semiconductor substrate; a gate structure over the semiconductor substrate; a source region on a first side of the gate structure; a drain region on a second side of the gate structure; and a thermal plug extending from a top side of the semiconductor substrate into an active region of the semiconductor substrate.

Classes IPC  ?

• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
• H01L 29/45 - Electrodes à contact ohmique
• H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT

Abrégé

Disclosed circuit structure embodiments include an enhancement mode transistor and a turn-off slew rate controller for automatically adding drain-source capacitance to the transistors when the transistor is transitioning to an off state. The added drain-source capacitance slows the turn-off slew rate (dV/dt_off) of the transistor without also increasing the turn-off energy loss (E_off). In some embodiments, the slew rate controller includes: sensors connected to the drain region for sensing both the drain voltage and the slew rate, respectively; a logic circuit for generating and outputting an enable signal based on output voltages from the sensors; and a capacitance adder for adding to the drain-source capacitance only when the logic value of the enable signal indicates that the drain voltage is at or above a predetermined positive drain voltage level and the slew rate is positive.

Classes IPC  ?

• H03K 19/003 - Modifications pour accroître la fiabilité
• H03K 17/0412 - Modifications pour accélérer la commutation sans réaction du circuit de sortie vers le circuit de commande par des dispositions prises dans le circuit de commande

Abrégé

Structures for a packaged photonics chip and associated methods. The structure comprises a photonics chip, a packaging substrate, a plurality of electrical connections disposed in a gap between the photonics chip and the packaging substrate, and a fillet comprising an underfill material. The fillet is disposed to overlap with a portion of the photonics chip adjacent to the gap, the fillet has a width dimension and a height dimension transverse to the width dimension, and a ratio of the width dimension to the height dimension is greater than or equal to 1.5.

Classes IPC  ?

• H01L 23/31 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements caractérisées par leur disposition
• H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H01L 23/04 - ConteneursScellements caractérisés par la forme

Abrégé

Structures for an insulated-gate bipolar transistor and methods of forming a structure for an insulated-gate bipolar transistor. The structure comprises a semiconductor substrate having a front surface and a back surface opposite from the front surface. The semiconductor substrate comprises a wide bandgap semiconductor material. The structure further comprises a gate electrode at the front surface of the semiconductor substrate, and a diode at the back surface of the semiconductor substrate.

Classes IPC  ?

• H01L 29/739 - Dispositifs du type transistor, c.à d. susceptibles de répondre en continu aux signaux de commande appliqués commandés par effet de champ
• H01L 29/16 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, mis à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, seulement des éléments du groupe IV de la classification périodique, sous forme non combinée
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/861 - Diodes

Abrégé

Disclosed semiconductor structures include semiconductor fin(s), each extending from a semiconductor substrate and having opposing sidewalls. Each fin has a lower portion and an upper portion above the lower portion. The lower portion has a base proximal to the semiconductor substrate and divots within the opposing sidewalls at the base. An isolation region is on the semiconductor substrate adjacent to the opposing sidewalls of each fin (e.g., including within the divots). The upper portion of each fin extends above the level of the top surface of the isolation region and can be incorporated into a single-fin or multi-fin fin-type device (e.g., a fin-type field effect transistor (FINFET)). In some embodiments, multiple single-fin and/or multi-fin FINFETs incorporating the upper portions of such fins can be incorporated into a memory cell, such as a static random access memory (SRAM) cell. Also disclosed herein are associated method embodiments.

Classes IPC  ?

• H10B 10/00 - Mémoires statiques à accès aléatoire [SRAM]
• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
• H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée

Abrégé

Structures including a compound semiconductor layer stack and methods of forming such structures. The structure comprises a device region on a substrate. The device region includes a first section of a layer stack that has a plurality of semiconductor layers, and each semiconductor layer comprises a compound semiconductor material. The structure further comprises an isolation structure disposed about the section of the layer stack, and a device in the device region. The isolation structure penetrates through the layer stack to the substrate.

Classes IPC  ?

• H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans une seule des sous-classes , , , , ou , p. ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
• H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
• H01L 23/48 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le ou hors du corps à l'état solide pendant son fonctionnement, p. ex. fils de connexion ou bornes

Abrégé

The disclosed subject matter relates generally to inductor structures integrated in semiconductor devices. More particularly, the present disclosure relates to a semiconductor device having a semiconductor chip, a redistribution layer on the semiconductor chip, and an inductor structure having an upper section in the redistribution layer and a lower section in the semiconductor chip. The upper section and the lower section are concentric about a center region of the inductor structure. The lower section is connected to the upper section.

Classes IPC  ?

• H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées

Abrégé

A semiconductor device including a semiconductor substrate. A first transistor and a second transistor are formed on the semiconductor substrate. Each transistor comprises a source, a drain, and a gate. A CA layer forms a local interconnect layer electrically connected to one of the source and the drain of the first transistor. A CB layer forms a local interconnect layer electrically connected to the gate of one of the first transistor and the second transistor. An end of the CB layer is disposed at a center of the CA layer

Classes IPC  ?

• H01L 23/535 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions internes, p. ex. structures d'interconnexions enterrées
• H01L 21/285 - Dépôt de matériaux conducteurs ou isolants pour les électrodes à partir d'un gaz ou d'une vapeur, p. ex. condensation
• H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
• H01L 21/8234 - Technologie MIS
• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
• H01L 23/532 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées caractérisées par les matériaux
• H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
• H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
• H01L 27/118 - Circuits intégrés à tranche maîtresse
• H01L 29/08 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode transportant le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus

Abrégé

A test tray system for electronics, like photonics integrated circuit (PIC) structures, and a related method are disclosed. The test tray system includes at least one test tray. Each test tray includes a first section exposing a first electrical component to a high temperature, and a second section covered by a thermal protection element configured to prevent a second component from being exposed to the high temperature at the same time that the first electrical component is being exposed to the high temperature. The test tray system allows testing of the first component at a high temperature, e.g., 125° C., while protecting the second component from the high temperatures.

Classes IPC  ?

• G01R 31/28 - Test de circuits électroniques, p. ex. à l'aide d'un traceur de signaux

Abrégé

An integrated circuit includes a fin having a height and a width under a gate of a selected fin-type field effect transistor (FinFET) that is less than the height and width along a remainder of the fin including under gates and for source/drain regions of other FinFETs. The IC includes a first FinFET having a first gate over a fin having a first height and a first width under the first gate, and a second FinFET in the fin adjacent to the first FinFET. The second FinFET has a second gate over the fin, and the fin has, under the second gate only, a second height less than the first height and a second width less than the first width. The resulting reduced channel height and width for the second FinFET increases gate control and reduces gate leakage, which is beneficial for ultra-low current leakage (ULL) devices.

Classes IPC  ?

• H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
• H01L 21/8234 - Technologie MIS
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs

Abrégé

Structures for a photonics chip that include a photonic component and methods of forming such structures. The structure may comprise a photodetector on a substrate and a waveguide core. The photodetector includes a light-absorbing layer having a longitudinal axis, a first sidewall, and a second sidewall adjoined to the first sidewall at an interior angle. The first sidewall is slanted relative to the longitudinal axis, and the second sidewall is oriented transverse to the longitudinal axis. The waveguide core includes a tapered section adjacent to the first sidewall and the second sidewall of the light-absorbing layer.

Classes IPC  ?

• G02B 6/122 - Éléments optiques de base, p. ex. voies de guidage de la lumière
• G02B 6/13 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication

Abrégé

The present disclosure relates to semiconductor structures and, more particularly, to gate-all-around field effect transistors and methods of manufacture. The structure includes: a plurality of stacked semiconductor nanosheets over a semiconductor substrate; a plurality of gate structures surrounding the plurality of semiconductor nanosheets; a conductive material between the plurality of semiconductor nanosheets and the plurality of gate structures; an inner sidewall spacer adjacent to each of the plurality of gate structures and conductive material; and source/drain regions on opposing sides of the plurality of gate structures, separated therefrom by the inner sidewall spacer.

Classes IPC  ?

• H01L 29/775 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à une dimension, p.ex. FET à fil quantique
• H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs

Abrégé

The present disclosure relates to semiconductor structures and, more particularly, to a high-electron-mobility transistor and methods of manufacture. The structure includes: a gate structure; a first field plate on a first side of the gate structure; and a second field plate on a second side of the gate structure, independent from the first field plate.

Classes IPC  ?

• H01L 29/40 - Electrodes
• H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT

Abrégé

Structures including an inductor and methods of forming such structures. The structure comprises a semiconductor substrate including a first plurality of sealed cavities and a back-end-of-line stack on the semiconductor substrate. Each sealed cavity includes an air gap, and the back-end-of-line stack includes an inductor having a winding that overlaps with the scaled cavities.

Classes IPC  ?

• H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
• H01L 21/764 - Espaces d'air
• H01L 49/02 - Dispositifs à film mince ou à film épais

Abrégé

Structures for a heterojunction bipolar transistor and methods of forming a structure for a heterojunction bipolar transistor. The structure comprises an intrinsic base including a first semiconductor layer, a collector including a second semiconductor layer, and an emitter including a third semiconductor layer. The first semiconductor layer, which comprises silicon-germanium, includes a first portion and a second portion adjacent to the first portion. The second semiconductor layer includes a portion on the first portion of the first semiconductor layer, and the third semiconductor layer includes a portion on the second portion of the first semiconductor layer. The structure further comprises a dielectric spacer laterally between the portion of the second semiconductor layer and the portion of the third semiconductor layer.

Classes IPC  ?

• H01L 29/737 - Transistors à hétérojonction
• H01L 29/08 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode transportant le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 29/165 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, mis à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, seulement des éléments du groupe IV de la classification périodique, sous forme non combinée comprenant plusieurs des éléments prévus en dans différentes régions semi-conductrices
• H01L 29/417 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative transportant le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs

Abrégé

Structures for an electrostatic discharge protection device and methods of forming same. The structure comprises a semiconductor substrate including a well, a field-effect transistor including a gate, a source having a doped region in the well, and a drain, and a silicon-controlled rectifier including a doped region in the well.

Classes IPC  ?

• H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface

Abrégé

An isolation structure for a substrate is disclosed. The isolation structure includes a lower portion having a first liner, and an upper portion having a second liner vertically over the first liner. A first dielectric material is surrounded by the second liner from above and by the first liner from below and laterally. The second liner may include a second dielectric material in at least part thereof. The second liner prevents exposure of end surfaces of a semiconductor layer of the substrate during subsequent processing, which prevents damage such as thinning, agglomeration and/or oxidation that can negatively affect performance of a transistor formed using the semiconductor layer. The second liner also reduces an overall step height of the isolation structure.

Classes IPC  ?

• H01L 21/762 - Régions diélectriques
• H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif

Abrégé

A disclosed structure includes a semiconductor fin on a substrate and an isolation region on the substrate laterally surrounding a lower portion of the fin. A fin-type field effect transistor (FINFET) includes an upper portion of the fin and an isolation structure, and a gate structure are on the isolation region and positioned laterally adjacent to the upper portion of the fin. The gate structure also extends over the top of the fin and abuts the isolation structure. The FINFET also includes an independently biasable supplementary gate structure integrated into the isolation structure. Specifically, an opening extends into the isolation structure adjacent to, but separated from, the fin. The supplementary gate structure includes a conductor layer within the opening and that portion of the isolation structure between the conductor layer and the semiconductor fin. Also disclosed are associated methods.

Classes IPC  ?

• H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
• H01L 21/28 - Fabrication des électrodes sur les corps semi-conducteurs par emploi de procédés ou d'appareils non couverts par les groupes
• H01L 21/8234 - Technologie MIS

Abrégé

The present disclosure relates to semiconductor structures and, more particularly, to nanosheet transistor structures and methods of manufacture. The structure includes: a plurality of stacked semiconductor nanosheets over a semiconductor substrate; a plurality of gate structures surrounding individual nanosheets of the plurality of semiconductor nanosheets; an inner sidewall spacer adjacent each of the plurality of gate structures; and corner spacers under the plurality of stacked semiconductor nanosheets.

Classes IPC  ?

• H01L 29/775 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à une dimension, p.ex. FET à fil quantique
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs

Abrégé

Device structures for a high-voltage semiconductor device and methods of forming such device structures. The structure comprises a semiconductor substrate and a layer stack including a first dielectric layer and a second dielectric layer. The first dielectric layer is positioned between the second dielectric layer and the semiconductor substrate. The structure further comprises a field-effect transistor including a first source/drain region in the semiconductor substrate, a second source/drain region in the semiconductor substrate, and a metal gate on the layer stack laterally between the first source/drain region and the second source/drain region. The second dielectric layer is positioned between the metal gate and the first dielectric layer. A contact extends through the layer stack to the first source/drain region.

Classes IPC  ?

• H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
• H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
• H01L 29/40 - Electrodes
• H01L 29/51 - Matériaux isolants associés à ces électrodes
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée

Abrégé

The present disclosure relates to semiconductor structures and, more particularly, to a device with a vertical nanowire channel region and methods of manufacture. The structure includes: a bottom source/drain region; a top source/drain region; a gate structure extending between the bottom source/drain region and the top source/drain region; and a vertical nanowire in a channel region of the gate structure.

Classes IPC  ?

• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 29/786 - Transistors à couche mince

Abrégé

A disclosed charge pump includes first and second stages and, optionally, additional stage(s). The first stage receives a voltage input (Vin) at a first voltage (V1), CLK1 (GND, V1), and CLK1B (V1, GND), and outputs a first stage voltage output (Vout1) at a second voltage (V2) double V1. A second stage receives Vout1, CLK2 (V1, V2), and CLK2B (V2, V1, and outputs a second stage voltage output (Vout2) at a third voltage (V3) essentially triple V1, and so on. A clock driver supplies CLK1-CLK1B to the first stage and to a clock generator. The clock generator includes: a voltage level shifter, which receives CLK1 and CLK1B and outputs multiple level-shifted voltage output pulses; and a driving circuit, which receives specific ones of the output voltage pulses and outputs CLK2 and CLK2B to the second stage and, if needed, additional voltage level-shifted clock signal-inverted clock signal pairs to any additional stages.

Classes IPC  ?

• H02M 3/07 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu sans transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des résistances ou des capacités, p. ex. diviseur de tension utilisant des capacités chargées et déchargées alternativement par des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande
• H03K 19/0185 - Dispositions pour le couplageDispositions pour l'interface utilisant uniquement des transistors à effet de champ

Abrégé

To reduce sub-harmonic oscillations in a Switched-Mode Power Supply (SMPS). a ramp generator circuit of the SMPS produces a ramp signal having an amplitude corresponding to a sensed current through an energy storage device, such as an inductor, of the SMPS. The ramp signal is used to control a duty cycle of the SMPS. The ramp generator circuit may include a reference current circuit, a ramp capacitor, and a discharge circuit to periodically discharge the ramp capacitor. The ramp capacitor may be charged using a charging current produced by combining a feedback current corresponding to the sensed current with a reference current produced by the reference current circuit and may be periodically discharged at a fixed frequency, or may be charged using the reference current and discharged at a time determined according to the feedback current.

Classes IPC  ?

• H02M 3/158 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu sans transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs avec commande automatique de la tension ou du courant de sortie, p. ex. régulateurs à commutation comprenant plusieurs dispositifs à semi-conducteurs comme dispositifs de commande finale pour une charge unique
• H02M 1/00 - Détails d'appareils pour transformation

Abrégé

Disclosed structures include a single-stage and a multi-stage voltage level shifter. Each structure includes multiple transistors, which are optionally all symmetric low-voltage transistors, and the structures are configured to avoid operation outside the safe operating area (SOA) of such transistors. The single-stage voltage level shifter and the first stage of the multi-stage voltage level shifter can be essentially identical. In operation, input voltage pulses (including an input voltage pulse transitioning between a first positive voltage (V1) equal to the voltage rating of the transistors and ground) can be received at source nodes of N-type transistors and, in response, output voltage pulses (including an intermediate output voltage pulse transitioning between V1 and a second positive voltage (V2) that is higher than (e.g., double) V1 and an output voltage pulse that transitions between ground and V2) can be output.

Classes IPC  ?

• H03K 19/0185 - Dispositions pour le couplageDispositions pour l'interface utilisant uniquement des transistors à effet de champ

Abrégé

A disclosed circuit structure includes a voltage level shifter connected to a variable voltage generator for receiving a low supply voltage and to a programmable voltage generator for receiving a high supply voltage that is higher than the low supply voltage. The high supply voltage is programmable to one of multiple different voltage levels. The variable voltage generator tracks the voltage level of the high supply voltage and outputs the low supply voltage based thereon. The high supply voltage is tracked either directly or using the trim bit signal employed by the programmable voltage generator to program the high supply voltage. The low supply voltage is high when the high supply voltage is high to ensure operation within the safe operating area and is low when the high supply voltage drops below some threshold level to ensure operability and, optionally, improve operating speed.

Classes IPC  ?

• H03K 19/0175 - Dispositions pour le couplageDispositions pour l'interface
• H03K 19/00 - Circuits logiques, c.-à-d. ayant au moins deux entrées agissant sur une sortieCircuits d'inversion
• H03K 19/003 - Modifications pour accroître la fiabilité

Abrégé

A structure includes a level shifter, first and second variable voltage generators, and a programmable voltage generator. The level shifter includes low and high supply voltage nodes and two parallel branches, including multiple transistors, connected between the nodes. The programmable voltage generator generates and applies a high supply voltage (VH) to the high supply voltage node. VH is programmable to one of multiple possible VH levels. Based on the voltage level of VH, the first variable voltage generator generates and applies a low supply voltage (VL) to the low supply voltage node and the second variable voltage generator generates and applies a gate bias voltage (VGB) to gates of some transistors. By tracking VH and adjusting VL and VGB based on thereon, the voltage level shifter operates within the SOA at high VHs, remains operable at low VHs, and maintains operating speed at mid-level VHs.

Classes IPC  ?

• H03K 19/00 - Circuits logiques, c.-à-d. ayant au moins deux entrées agissant sur une sortieCircuits d'inversion
• H03K 19/0185 - Dispositions pour le couplageDispositions pour l'interface utilisant uniquement des transistors à effet de champ
• H03K 19/20 - Circuits logiques, c.-à-d. ayant au moins deux entrées agissant sur une sortieCircuits d'inversion caractérisés par la fonction logique, p. ex. circuits ET, OU, NI, NON

Abrégé

Structures for a high-electron-mobility transistor and methods of forming such structures. The structure comprises a device structure including a gate and an ohmic contact, and one or more inactive blocks laterally positioned between the gate and the ohmic contact.

Classes IPC  ?

• H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
• H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs

Abrégé

The present disclosure relates to semiconductor structures and, more particularly, to vertically stacked diode-trigger silicon controlled rectifiers and methods of manufacture. The structure includes: a silicon controlled rectifier in a trap rich region of a semiconductor substrate; and at least one diode built in polysilicon (gate material) and isolated by a gate-dielectric.

Classes IPC  ?

• H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/74 - Dispositifs du type thyristor, p.ex. avec un fonctionnement par régénération à quatre zones

Abrégé

The present disclosure relates to semiconductor structures and, more particularly, to heterojunction bipolar transistors (HBTs) with a buried trap rich region and methods of manufacture. The structure includes: a trap rich isolation region embedded within the bulk substrate; and a heterojunction bipolar transistor above the trap rich isolation region, with its sub-collector region separated by the trap rich isolation region by a layer of the bulk substrate.

Classes IPC  ?

• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 21/763 - Régions polycristallines semi-conductrices
• H01L 29/08 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode transportant le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 29/165 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, mis à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, seulement des éléments du groupe IV de la classification périodique, sous forme non combinée comprenant plusieurs des éléments prévus en dans différentes régions semi-conductrices
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/737 - Transistors à hétérojonction

Abrégé

The present disclosure relates to semiconductor structures and, more particularly, to multi-channel transistors and methods of manufacture. The structure includes: a gate structure; a single channel layer in a channel region under the gate structure; a drift region adjacent to the gate structure; and multiple channel layers in the drift region coupled to the single channel layer under the gate structure.

Classes IPC  ?

• H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
• H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs

Abrégé

Plasmonic photonic structures that include a layer that exhibits an electric-field-induced Pockels effect and methods of forming such structures. The structure comprises a waveguide core on a substrate, a first layer that has an overlapping relationship with the first waveguide core, and a second layer that has an overlapping relationship with the first waveguide core and the first layer. The first layer comprises a metal, and the second layer comprising a material that exhibits an electric-field-induced Pockels effect.

Classes IPC  ?

• G02F 1/015 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur basés sur des éléments à semi-conducteurs ayant des barrières de potentiel, p. ex. une jonction PN ou PIN
• G02F 1/025 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur basés sur des éléments à semi-conducteurs ayant des barrières de potentiel, p. ex. une jonction PN ou PIN dans une structure de guide d'ondes optique
• G02F 1/035 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur basés sur des céramiques ou des cristaux électro-optiques, p. ex. produisant un effet Pockels ou un effet Kerr dans une structure de guide d'ondes optique

Abrégé

Structures for an electrostatic discharge protection device and methods of forming same. The structure comprises adjacent first and second gates over a semiconductor substrate, a source adjacent to the first gate, and a drain adjacent to the second gate. The source includes a first well in the semiconductor substrate, a second well in the semiconductor substrate, and a doped region. The first well and the doped region have a first conductivity type, and the second well has a second conductivity type opposite from the first conductivity type. The doped region has a first portion that overlaps with the first well, and the doped region has a second portion that overlaps with the second well.

Classes IPC  ?

• H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface

Abrégé

Embodiments of the disclosure provide a multi-substrate coupling for photonic integrated circuits (PICs). Structures of the disclosure may include a first substrate having a first surface. The first surface includes a groove therein. A second substrate has a second surface coupled to the first surface. The second substrate includes a cavity substantially aligned with the groove of the first surface, and a photonic integrated circuit (PIC) structure horizontally distal to the cavity.

Classes IPC  ?

• G02B 6/42 - Couplage de guides de lumière avec des éléments opto-électroniques

Abrégé

A structure includes a through semiconductor via (TSV) in a semiconductor substrate. The structure also includes a cavity including a first cavity portion in the semiconductor substrate and surrounding a middle section of the TSV and in direct contact with the TSV. The cavity also includes a plurality of second cavity portions in the semiconductor substrate and surrounding an upper section of the TSV. The semiconductor substrate is between adjacent second cavity portions, creating a bridge portion that provides structural support. The cavity reduces parasitic capacitance.

Classes IPC  ?

• H01L 23/48 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le ou hors du corps à l'état solide pendant son fonctionnement, p. ex. fils de connexion ou bornes
• H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
• H01L 23/532 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées caractérisées par les matériaux

Abrégé

Disclosed structures and methods include a top chip flipped relative to a bottom chip and bonded thereto. On the top chip, dielectric material layers separate a transistor from the bottom chip. The transistor includes source and drain regions; a body region on a channel region between the source and drain regions; and a gate structure adjacent to and between the channel region and the dielectric material layers. Alternatively, the transistor includes: a source region between drain regions; a body region on a channel region between the source region and each drain region; and gate structures adjacent to and between the channel regions and the dielectric material layers. The first chip also includes an insulator layer on the transistor opposite the dielectric material layers, a trench in the insulator layer extending to the source and body regions, and a local interconnect at the bottom of the trench.

Classes IPC  ?

• H01L 23/48 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le ou hors du corps à l'état solide pendant son fonctionnement, p. ex. fils de connexion ou bornes
• H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
• H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
• H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
• H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans une seule des sous-classes , , , , ou , p. ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée

Abrégé

Structures including a calibration marker adjacent to a photonic structure and methods of forming such structures. The structure comprises a semiconductor substrate, a photonic structure, and a back-end-of-line stack over the semiconductor substrate. The back-end-of-line stack includes a plurality of fill features, an exclusion area surrounded by the plurality of fill features, and a calibration marker in the exclusion area. The calibration marker is disposed adjacent to the photonic structure, and the calibration marker includes a feature having a predetermined dimension.

Classes IPC  ?

• G02B 6/42 - Couplage de guides de lumière avec des éléments opto-électroniques
• G06T 7/00 - Analyse d'image

Abrégé

Disclosed structures and methods include a top chip flipped relative to a bottom chip and bonded thereto. On the top chip, dielectric material layers separate a transistor from the bottom chip. The transistor includes source and drain regions, a body region on a channel region between the source and drain regions, and a gate structure adjacent to and between the channel region and the dielectric material layers. An insulator layer is on the transistor opposite the dielectric material layers and includes an opening extending to the body region. Optionally, a semiconductor layer is at the bottom of the opening. A contact extends into the opening to the body region (or to the semiconductor layer thereon, if applicable).

Classes IPC  ?

• H01L 25/07 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans une seule des sous-classes , , , , ou , p. ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans la sous-classe
• H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H01L 25/00 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide

Abrégé

A semiconductor device includes an insulating layer, a first semiconductor layer over the insulating layer, a diffusion break structure between a first active region and a second active region and including a first insulating pattern over the insulating layer and an opening over the first insulating pattern, and a conductive gate material over the opening.

Classes IPC  ?

• H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs

Abrégé

Photonics chip structures including an edge coupler and a layer that exhibits an electric-field-induced Pockels effect and methods of forming such structures. The structure comprises a substrate, an edge coupler on the substrate, and a layer including a portion that has an overlapping relationship with the edge coupler. The layer comprises a material that exhibits an electric-field-induced Pockels effect.

Classes IPC  ?

• G02F 1/035 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur basés sur des céramiques ou des cristaux électro-optiques, p. ex. produisant un effet Pockels ou un effet Kerr dans une structure de guide d'ondes optique

Abrégé

Structures including a grating coupler and a layer that exhibits an electric-field-induced Pockels effect and methods of forming such structures. The structure comprises a first grating coupler on a substrate, a second grating coupler having an overlapping relationship with the first grating coupler, and a layer including a portion having an overlapping relationship with the second grating coupler. The layer comprises a material that exhibits an electric-field-induced Pockels effect.

Classes IPC  ?

• G02F 1/03 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur basés sur des céramiques ou des cristaux électro-optiques, p. ex. produisant un effet Pockels ou un effet Kerr
• G02F 1/035 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur basés sur des céramiques ou des cristaux électro-optiques, p. ex. produisant un effet Pockels ou un effet Kerr dans une structure de guide d'ondes optique

Abrégé

Structures for a broadband optical switch and methods of forming such structures. The structure comprises a Mach-Zehnder interferometer including first and second arms. The first arm comprises a first waveguide core, and the second arm comprises a second waveguide core. The structure further comprises a ring resonator comprising a third waveguide core that has a first thickness. A portion of the third waveguide core is adjacent to a portion of the first waveguide core over a light coupling region. A slab layer connects the portion of the first waveguide core to the portion of the third waveguide core. The slab layer has a second thickness that is less than the first thickness of the first waveguide core.

Classes IPC  ?

• G02F 1/225 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur par interférence dans une structure de guide d'ondes optique
• G02F 1/01 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
• G02F 1/21 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur par interférence

Abrégé

An integrated circuit product including a first layer of insulating material that includes a first insulating material, a metallization blocking structure positioned in an opening in the first layer of insulating material, a second layer of insulating material including a second insulating material positioned below the metallization blocking structure, a metallization trench defined in the first layer of insulating material on opposite sides of the metallization blocking structure, and a conductive metallization line positioned in the metallization trench on opposite sides of the metallization blocking structure.

Classes IPC  ?

• H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
• H01L 21/8234 - Technologie MIS
• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
• H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
• H01L 23/532 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées caractérisées par les matériaux
• H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
• H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
• H01L 29/40 - Electrodes

Abrégé

Structures including a photonics chip and a cavity-mounted laser chip, and methods of forming and using such structures. The structure comprises a photonics chip including a substrate and a cavity in the substrate. The structure further comprises a laser chip inside the cavity, and a lead frame comprising a first section attached to a portion of the laser chip and a second section attached to a portion of the photonics chip.

Classes IPC  ?

• H01S 5/0232 - Cadres conducteurs
• H01S 5/02345 - Câblage filaire
• H01S 5/0236 - Fixation des puces laser sur des supports en utilisant un adhésif
• H01S 5/0237 - Fixation des puces laser sur des supports par soudage

Abrégé

A structure includes a first gate structure spaced from a second gate structure in a field effect transistor (FET) area of a substrate. A polysilicon resistor is in a space between the first gate structure and the second gate structure. The polysilicon resistor has a lower surface that is farther from the substrate than lower surfaces of the polysilicon bodies of the first and second gate structures. The polysilicon resistor may have a different polarity dopant compared to at least one of the polysilicon bodies of the first and second gate structures.

Classes IPC  ?

• H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
• H01L 21/8249 - Technologie bipolaire et MOS

Abrégé

A photonic integrated circuit (PIC) die are provided. The PIC die includes a set of optical connect grooves including a first groove aligning a core of a first optical fiber positioned with a first optical component in a first layer at a first vertical depth in a plurality of layers of a body of the die, and a second groove aligning a core of a second optical fiber positioned therein with a second optical component in a second, different layer at a second different vertical depth in the plurality of layers. The grooves may also have end faces at different lateral depths from an edge of the body of the PIC die. Any number of the first and second grooves can be used to communicate an optical signal to any number of layers at different vertical and/or lateral depths within the body of the PIC die.

Classes IPC  ?

• G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
• G02B 6/30 - Moyens de couplage optique pour usage entre fibre et dispositif à couche mince
• G02B 6/42 - Couplage de guides de lumière avec des éléments opto-électroniques
• G02B 6/43 - Dispositions comprenant une série d'éléments opto-électroniques et d'interconnexions optiques associées

Abrégé

Structures for a photonics chip that include a reflector and methods of forming such structures. The structure comprises a reflector including a dielectric layer on a semiconductor substrate, a plurality of trenches in the dielectric layer, and a reflector layer. Each trench includes a plurality of sidewalls, and the reflector layer includes a portion on the sidewalls of each trench. The structure further comprises a photonic component over the reflector.

Classes IPC  ?

• G02B 6/124 - Lentilles géodésiques ou réseaux intégrés
• G02B 6/13 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication

Abrégé

Systems and methods for designing photonic integrated circuits (PICs) include a simulation program with virtual optical probing functions and, optionally, bidirectional optical signal propagation simulation. For probing, a processor receives an output expression specifying a virtual optical probing function (e.g., for power in dBm, etc.) and a net within a PIC design. If different simulation types are enabled, the expression specifies simulation type. If bidirectionality is enabled, the expression specifies the forward or reverse direction. In response, the processor accesses the PIC design and results of simulation(s) thereof and calculates and outputs an optical signal parameter value for the specified net. For bidirectionality, component descriptions of photonic device cells define, at each input/output terminal, pins associated with each of multiple optical signal components in both directions and, when such cells are incorporated into a PIC design, analytical functions employ the pins to model the optical signal components in both directions.

Classes IPC  ?

• G02B 27/00 - Systèmes ou appareils optiques non prévus dans aucun des groupes ,
• G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
• G06F 30/31 - Saisie informatique, p. ex. éditeurs spécifiquement adaptés à la conception de circuits
• G06F 30/323 - Traduction ou migration, p. ex. logique à logique, traduction de langage descriptif de matériel ou traduction de liste d’interconnections [Netlist]

Abrégé

Structures for a thermo-optic phase shifter and methods of forming a thermo-optic phase shifter. The structure comprises an interconnect structure including a dielectric layer, a waveguide core on the dielectric layer, and a heater on the dielectric layer. The heater includes a resistive heating element positioned adjacent to the waveguide core.

Classes IPC  ?

• G02F 1/01 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur

Abrégé

Structures for a thermo-optic phase shifter and methods of forming a thermo-optic phase shifter. The structure comprises a semiconductor substrate, and a heater including a first resistive heating element, a second resistive heating element, and a slab layer connecting the first resistive heating element to the second resistive heating element. The first resistive heating element and the second resistive heating element have a first thickness, and the slab layer has a second thickness that is less than the first thickness. The structure further comprises a waveguide core including a portion that is laterally positioned between the first resistive heating element and the second resistive heating element. The slab layer of the heater is disposed between the portion of the waveguide core and the semiconductor substrate.

Classes IPC  ?

• G02F 1/01 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur

Abrégé

The present disclosure relates to semiconductor structures and, more particularly, to a wraparound gate structure and methods of manufacture. The structure includes: a channel region comprising semiconductor material; an isolation structure surrounding the channel region; a divot within the isolation structure; and a gate structure comprising gate material within the divot and surrounding the channel region.

Classes IPC  ?

• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 21/84 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant autre chose qu'un corps semi-conducteur, p.ex. étant un corps isolant
• H01L 27/12 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant autre qu'un corps semi-conducteur, p.ex. un corps isolant
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs

Abrégé

Structures including a photodetector and methods of forming a structure including a photodetector. The structure comprises a photodetector including a pad and a semiconductor layer positioned on the pad. The semiconductor layer has a sidewall, the pad comprises a semiconductor material, and the pad includes a top surface and a side edge. The structure further comprises a waveguide core including a tapered section adjacent to the side edge of the pad, and a confining feature in the pad adjacent to the sidewall of the semiconductor layer. The confining feature extends below the top surface of the pad, and the confining feature comprises a dielectric material.

Classes IPC  ?

• H01L 33/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails
• H01L 33/48 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs
• H01L 33/50 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de conversion de la longueur d'onde
• H01L 33/52 - Encapsulations

Abrégé

Structures for a photonics chip that include a cavity or groove and methods of forming same. The structure comprises a semiconductor substrate including a first opening, a back-end-of-line stack on the semiconductor substrate, and a dielectric layer on the back-end-of-line stack. The back-end-of-line stack includes a pad, and the dielectric layer includes a second opening that extends to the pad. The structure further comprises an electrical interconnect inside the second opening in the dielectric layer. The electrical interconnect includes a sidewall that is separated in a lateral direction from the dielectric layer by a gap.

Classes IPC  ?

• F21V 8/00 - Utilisation de guides de lumière, p. ex. dispositifs à fibres optiques, dans les dispositifs ou systèmes d'éclairage
• G02B 6/122 - Éléments optiques de base, p. ex. voies de guidage de la lumière

Abrégé

A magnetic memory device is provided. The magnetic memory device includes a first magnetic tunnel junction (MTJ) stack, a second MTJ stack, and a spin-orbit torque (SOT) electrode. The second MTJ stack is adjacent to the first MTJ stack. The SOT electrode is connected to the first MTJ stack and the second MTJ stack, wherein the SOT electrode has a first electrode section along a first axis and a second electrode section along a second axis, and the second axis is spaced apart from and parallel to the first axis.

Classes IPC  ?

• H10B 61/00 - Dispositifs de mémoire magnétique, p. ex. dispositifs RAM magnéto-résistifs [MRAM]
• H10N 50/20 - Dispositifs à courant commandé à polarisation de spin

Abrégé

Disclosed are a structure with a multi-level field plate and a method of forming the structure. The field plate includes multiple first conductors on a dielectric layer and separated from each other by spaces with different widths (e.g., by with progressively decreasing widths). A conformal additional dielectric layer extends over the first conductors and onto the dielectric layer within the spaces. The field plate also includes, on the additional dielectric layer, second conductor(s) with portions thereof extending into the spaces. Within the spaces, the second conductor portions are at different heights (e.g., at progressively increasing heights) above the dielectric layer. Such a field plate can be incorporated into a transistor (e.g., a high electron mobility transistor (HEMT)) to, not only reduce the peak of an electric field exhibited proximal to a gate terminal, but to ensure the electric field is essentially uniform level between the gate and drain terminals.

Classes IPC  ?

• H01L 29/51 - Matériaux isolants associés à ces électrodes
• H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
• H01L 29/40 - Electrodes
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT

Abrégé

Structures including an ohmic contact for a high-electron-mobility transistor and methods of forming such structures. The structure comprises a layer stack on a substrate and a device structure including an ohmic contact. The layer stack includes a plurality of semiconductor layers each comprising a compound semiconductor material. The ohmic contact includes a metal layer in a contacting relationship with a portion of at least one of the semiconductor layers of the layer stack and a region comprising oxygen atoms, and the metal layer is positioned between the region and the portion of the at least one of the semiconductor layers of the layer stack.

Classes IPC  ?

• H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
• H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
• H01L 29/40 - Electrodes
• H01L 29/45 - Electrodes à contact ohmique
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs

Abrégé

The present disclosure relates to a circuit and, more particularly, to comparator circuits used with a depletion mode device and methods of operation. The circuit includes: a comparator, a transistor connected to an output of the comparator; and a depletion mode device connected to ground and comprising a control gate connected to the transistor.

Classes IPC  ?

• H03K 5/22 - Circuits présentant plusieurs entrées et une sortie pour comparer des impulsions ou des trains d'impulsions entre eux en ce qui concerne certaines caractéristiques du signal d'entrée, p. ex. la pente, l'intégrale
• H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ

Abrégé

The present disclosure relates to semiconductor structures and, more particularly, to nanosheet transistor structures with tunable channels and inner sidewall spacers and methods of manufacture. The structure includes: a plurality of stacked semiconductor nanosheets over a semiconductor substrate; a plurality of gate structures surrounding individual nanosheets of the plurality of semiconductor nanosheets, with a lower gate structure comprising a length at least equal to a length of each remaining gate structure of the plurality of gate structures; an inner sidewall spacer adjacent each of the plurality of gate structures; and source/drain regions on opposing sides of the plurality of gate structures, separated therefrom by the inner sidewall spacer.

Classes IPC  ?

• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 21/8234 - Technologie MIS
• H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/417 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative transportant le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/775 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à une dimension, p.ex. FET à fil quantique

Abrégé

A photonic integrated circuit (PIC) includes a waveguide in or over a semiconductor substrate. The waveguide has a terminal end. The PIC also includes an optical absorber having a curved shape adjacent to opposing sides and an endwall of the terminal end of the waveguide, i.e., it surrounds the terminal end of the waveguide. The optical absorber is multi-layered and includes a light absorbing layer. The light absorbing layer may include germanium or a vanadate. The optical absorber terminates or attenuates any stray optical signals from the waveguide while maintaining low back reflection.

Classes IPC  ?

• G02B 6/122 - Éléments optiques de base, p. ex. voies de guidage de la lumière
• G02B 6/13 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication

Abrégé

Embodiments of the disclosure provide a customizable logic cells and related methods to form the same. A structure of the disclosure includes a first pair of complementary transistors connected in series between a first voltage node and a second voltage node. Each transistor of the first pair includes a gate coupled to a first input node. A second pair of complementary transistors is connected in series between the first voltage node and the second voltage node in an opposite orientation from the first pair of complementary transistors. Each transistor of the second pair includes a gate coupled to a second input node. An output line is coupled to a first electrical connection between the first pair complementary transistors and a second electrical connection between the second pair of complementary transistors.

Classes IPC  ?

• H03K 19/0185 - Dispositions pour le couplageDispositions pour l'interface utilisant uniquement des transistors à effet de champ

Abrégé

Structures including an edge coupler and methods of forming such structures. The structure comprises an edge coupler including a first portion and a second portion between the first portion and a semiconductor substrate, a first coupling-assistance feature adjacent to the first portion of the edge coupler, and a second coupling-assistance feature adjacent to the first portion of the edge coupler. The first portion of the edge coupler is positioned in a lateral direction between the first coupling-assistance feature and the second coupling-assistance feature.

Classes IPC  ?

• G02B 6/122 - Éléments optiques de base, p. ex. voies de guidage de la lumière
• G02B 6/13 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication

Abrégé

Structures including a photodetector and methods of forming a structure including a photodetector. The structure comprises a photodetector including a pad and a semiconductor layer on the pad, a first waveguide core including a tapered section adjacent to a sidewall of the semiconductor layer, and a second waveguide core including a curved section adjacent to the sidewall of the semiconductor layer. The curved section includes a plurality of segments, and the tapered section of the first waveguide core is overlapped by at least one of the plurality of segments in the curved section of the second waveguide core.

Classes IPC  ?

• G02B 6/122 - Éléments optiques de base, p. ex. voies de guidage de la lumière
• G02B 6/13 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication

Abrégé

An apparatus and method for providing high throughput memory responses are provided. The apparatus includes a memory device including a plurality of memory arrays, a memory controller configured to control the memory device, the memory controller having a read queue, a write queue, and an address match circuit, and a data output circuit. The memory controller receives a read request, searches the write queue for a write address that matches a read address of the read request, and sends data associated with the write address from the write queue to the data output circuit without accessing the memory device when the write address matches the read address, the write address that matches the read address being a target address. The data output circuit outputs the data associated with the target address to an external device.

Classes IPC  ?

• G06F 3/06 - Entrée numérique à partir de, ou sortie numérique vers des supports d'enregistrement

Abrégé

Embodiments of the disclosure provide a structure including a passive component traversing multiple semiconductor chips, with related systems and methods. A structure of the disclosure includes a plurality of stacked semiconductor chips including a first chip coupled to a second chip through an interface. A passive component traverses the interface between the first chip and the second chip of the plurality of stacked semiconductor chips. The passive component includes a first portion within the first chip and a second portion within the second chip.

Classes IPC  ?

• H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• G06F 30/39 - Conception de circuits au niveau physique
• H01L 23/544 - Marques appliquées sur le dispositif semi-conducteur, p. ex. marques de repérage, schémas de test
• H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans une seule des sous-classes , , , , ou , p. ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe

Abrégé

An integrated circuit (IC) structure, including a semiconductor-on-insulator (SOI) substrate, the SOI substrate including a buried insulator layer over a base semiconductor layer, and a semiconductor-on-insulator (SOI) layer over the buried insulator layer. The IC structure further includes a gate over a gate dielectric layer over the SOI layer. The IC structure includes an n-type metal-oxide semiconductor (n-MOS) capacitor. The n-MOS capacitor includes an n-well under the buried insulator layer, and an n-type semiconductor adjacent a first side of the gate. The IC structure also includes a p-type metal-oxide semiconductor (p-MOS) capacitor adjacent the n-MOS capacitor and includes a p-well adjacent the n-well and a p-type semiconductor adjacent a second side of the gate. The gate is electrically connected only to the n-MOS capacitor and the p-MOS capacitor.

Classes IPC  ?

• H01L 27/12 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant autre qu'un corps semi-conducteur, p.ex. un corps isolant
• H01L 21/84 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant autre chose qu'un corps semi-conducteur, p.ex. étant un corps isolant
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/94 - Dispositifs à métal-isolant-semi-conducteur, p.ex. MOS

Abrégé

A process for performing a design rule check (DRC) by a computer may comprise receiving a DRC result comprising a plurality of DRC errors, the DRC result corresponding to a DRC deck comprising a plurality of rules and a design layout database comprising a plurality of components; classifying, using a neural network, each of the plurality of DRC errors according to whether that DRC should be ignored; and producing a final report including a plurality of respective indications of whether the plurality of DRC errors should be ignored. Performing the process may further include the receiving mistake feedback regarding the final report; updating, using the mistake feedback, a DRC result dataset comprising a plurality of dataset entries; and re-training the neural network using the updated DRC result dataset.

Classes IPC  ?

• G06F 30/398 - Vérification ou optimisation de la conception, p. ex. par vérification des règles de conception [DRC], vérification de correspondance entre géométrie et schéma [LVS] ou par les méthodes à éléments finis [MEF]

Abrégé

Structures including a light source and an edge coupler, and methods of forming and using such structures. The structure comprises a semiconductor substrate and a back-end-of-line stack on the semiconductor substrate. The back-end-of-line stack includes a first dielectric layer, a first plurality of metal features in the first dielectric layer, a second dielectric layer on the first dielectric layer, and a second plurality of metal features in the second dielectric layer. The second plurality of metal features have a non-overlapping relationship with the first plurality of metal features. The structure further comprises an edge coupler adjacent to the first plurality of metal features and the second plurality of metal features.

Classes IPC  ?

• G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
• G02B 6/136 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication par gravure
• H04N 5/33 - Transformation des rayonnements infrarouges

Abrégé

Structures including a cavity adjacent to an edge coupler and methods of forming such structures. The structure comprises a semiconductor substrate including a cavity with a sidewall, a dielectric layer on the semiconductor substrate, and an edge coupler on the dielectric layer. The structure further comprises a fill region including a plurality of fill features adjacent to the edge coupler. The fill region includes a reference marker at least partially surrounded by the plurality of fill features, and the reference marker has a perimeter that surrounds a surface area of the dielectric layer, and the surface area overlaps with a portion of the sidewall of the cavity.

Classes IPC  ?

• G02B 6/30 - Moyens de couplage optique pour usage entre fibre et dispositif à couche mince
• G02B 6/42 - Couplage de guides de lumière avec des éléments opto-électroniques

Abrégé

Disclosed are embodiments of an amplifier circuit (e.g., a differential amplifier circuit with symmetric parallel branches between input and output stages or a single-ended amplifier circuit with one leg between input and output stages). The circuit includes a power stage. Within the power stage of a differential amplifier circuit, the parallel branches include one or more pairs of power transistors, and varactors are connected to gates of at least one pair of power transistors. Within the power stage of a single-ended amplifier circuit there are one or more power transistors, and a varactor is connected to a gate of at least one power transistor. In operation, capacitance of each varactor is adjustable to fine-tune power transistor gate capacitance and thereby achieve stability and/or improve performance of the amplifier circuit.

Classes IPC  ?

• H03F 1/30 - Modifications des amplificateurs pour réduire l'influence des variations de la température ou de la tension d'alimentation
• H03F 3/24 - Amplificateurs de puissance, p. ex. amplificateurs de classe B, amplificateur de classe C d'étages transmetteurs de sortie

Abrégé

An electrostatic discharge (ESD) protection device is provided. The ESD protection device includes a substrate having an upper substrate surface, an active well region, a first terminal well region, and a second terminal well region. The active well region is in the substrate, and the first terminal well region and the second terminal well region are in the active well region. The second terminal well region is spaced apart from the first terminal well region. The first terminal well region and the second terminal well region each includes a first doped region, a first contact region having at least a portion in the first doped region, and a second contact region spaced apart from the first doped region.

Classes IPC  ?

• H01L 29/735 - Transistors latéraux
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs

Abrégé

Disclosed are a multi-photodetector circuit and an optical receiver incorporating the circuit. The circuit includes parallel-connected photodiodes. In some embodiments, photodiodes are connected, in a same direction, between a positive power supply line and an output line. They receive equal power optical signals or a series of 1:2 optical dividers is employed so each photodiode receives a progressively lower power signal until the last two photodiodes, which receive equal power optical signals. In other embodiments, first photodiodes are connected, in one direction, between a positive power supply line and an output line and second photodiodes are connected, in an opposite direction, between a negative power supply line and the output line. First photodiodes receive equal power optical signals from an optical divider in response to an optical input signal and second photodiodes receive equal power optical signals from another optical divider in response to an inverted optical input signal.

Classes IPC  ?

• H04B 10/69 - Dispositions électriques dans le récepteur
• H04B 10/40 - Émetteurs-récepteurs