A system and method for measuring blood pressure. In some embodiments, a system includes a speckleplethysmography sensor and a processing circuit. The system may be configured: to perform, using the speckleplethysmography sensor, blood flow measurements of a subject, and measurements of cuff pressure of a cuff worn by the subject, while the cuff pressure varies; and to calculate, from the blood flow measurements and the cuff pressure measurements, a first blood pressure.
A61B 5/021 - Mesure de la pression dans le cœur ou dans les vaisseaux sanguins
A61B 5/00 - Mesure servant à établir un diagnostic Identification des individus
A61B 5/022 - Mesure de la pression dans le cœur ou dans les vaisseaux sanguins par application d'une pression pour fermer les vaisseaux sanguins, p. ex. contre la peauOphtalmodynamomètres
A61B 5/0295 - Mesure du débit sanguin utilisant la pléthysmographie, c.-à-d. par mesure des variations du volume d'une partie du corps induites par la circulation du sang qui traverse cette partie, p. ex. pléthysmographie par impédance
A method of transfer printing. The method comprising: providing a precursor photonic device, comprising a substrate and a bonding region, wherein the precursor photonic device includes one or more alignment marks located in or adjacent to the bonding region; providing a transfer die, said transfer die including one or more alignment marks; aligning the one or more alignment marks of the precursor photonic device with the one or more alignment marks of the transfer die; and bonding at least a part of the transfer die to the bonding region.
G02B 6/13 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication
G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
H01L 21/677 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le transport, p. ex. entre différents postes de travail
H01L 21/68 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le positionnement, l'orientation ou l'alignement
H01L 23/544 - Marques appliquées sur le dispositif semi-conducteur, p. ex. marques de repérage, schémas de test
H01L 25/16 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant de types couverts par plusieurs des sous-classes , , , , ou , p. ex. circuit hybrides
A wearable device includes a first optical sensor module, the first optical sensor module including: an image sensor configured to receive light from biological tissue; a photodiode configured to receive light from the tissue; a light source comprising a laser and being configured to illuminate, through the tissue, each of the image sensor and the photodiode, a distance between the image sensor and the photodiode being less than 50% of the distance between the image sensor and the light source; at least one processing circuit configured to process first data corresponding to a first light signal received by the image sensor from the light source to generate a speckleplethysmography (SPG) measurement, and to process second data corresponding to a second light signal received by the photodiode from the light source to generate a photoplethysmography (PPG) measurement.
A coupon wafer comprising a device coupon (110) for use in a micro-transfer printing process used to fabricate an optoelectronic device. The coupon wafer includes a wafer substrate (124), and the device coupon (110) is attached to the wafer substrate via a tether (122) and the tether (122) is formed from a dielectric material.
A system including a laser. In some embodiments, the system includes a semiconductor laser, configured to generate laser light at an operating wavelength. The semiconductor laser may include: an optical waveguide including a gain medium; a first facet, at a first end of the optical waveguide; a second facet, at a second end of the optical waveguide; and a first reflector, in the optical waveguide, between the first facet and the second facet. The first reflector may be a discrete reflector.
A method of preparing a distributed feedback laser. The distributed feedback laser comprises an active waveguide with a reflective facet. The method comprises: etching a grating into the distributed feedback laser; and etching an output facet into the active waveguide.
H01S 5/12 - Structure ou forme du résonateur optique le résonateur ayant une structure périodique, p. ex. dans des lasers à rétroaction répartie [lasers DFB]
H01S 5/0234 - Montage à orientation inversée, p. ex. puce retournée [flip-chip], montage à côté épitaxial au-dessous ou montage à jonction au-dessous
H01S 5/10 - Structure ou forme du résonateur optique
H01S 5/22 - Structure ou forme du corps semi-conducteur pour guider l'onde optique ayant une structure à nervures ou à bandes
H01S 5/343 - Structure ou forme de la région activeMatériaux pour la région active comprenant des structures à puits quantiques ou à superréseaux, p. ex. lasers à puits quantique unique [SQW], lasers à plusieurs puits quantiques [MQW] ou lasers à hétérostructure de confinement séparée ayant un indice progressif [GRINSCH] dans des composés AIIIBV, p. ex. laser AlGaAs
A multi-module wearable device. According to an embodiment of the present disclosure, there is provided a system, including: a first wearable instrument; a second wearable instrument including a biometric sensor; an electrical connection between the first wearable instrument and the second wearable instrument; and a strap, sized and dimensioned to be disposed about a wrist. The electrical connection may be capable of connecting the first wearable instrument to the second wearable instrument when the second wearable instrument is at a first position on the strap relative to the first wearable instrument, and of connecting the first wearable instrument to the second wearable instrument when the second wearable instrument is at a second position on the strap relative to the first wearable instrument.
A system and method for optical coupling. In some embodiments, the system includes a first semiconductor chip, including a semiconductor optical amplifier; and a second semiconductor chip, including a fork coupler. The fork coupler may includes a plurality of waveguide fingers, and an output waveguide. The waveguide fingers may be configured to guide, together, a first optical mode of the fork coupler; and the fork coupler may be arranged such that an output mode of the semiconductor optical amplifier couples to the first optical mode of the fork coupler.
H01S 5/026 - Composants intégrés monolithiques, p. ex. guides d'ondes, photodétecteurs de surveillance ou dispositifs d'attaque
H01S 5/343 - Structure ou forme de la région activeMatériaux pour la région active comprenant des structures à puits quantiques ou à superréseaux, p. ex. lasers à puits quantique unique [SQW], lasers à plusieurs puits quantiques [MQW] ou lasers à hétérostructure de confinement séparée ayant un indice progressif [GRINSCH] dans des composés AIIIBV, p. ex. laser AlGaAs
A system for sensing one or more biometrics. In some embodiments, the system includes a first wearable instrument; a second wearable instrument including a biometric sensor; a conductive connection between the first wearable instrument and the second wearable instrument; and a strap, sized and dimensioned to be disposed about a wrist. The system may be capable of securing the first wearable instrument to the strap, of securing the second wearable instrument to the strap at a first position relative to the first wearable instrument, and of securing the second wearable instrument to the strap at a second position relative to the first wearable instrument.
A system and method for alignment. In some embodiments, the method includes measuring a first offset, the first offset being an offset along a first direction between a first alignment mark and a second alignment mark, the first alignment mark being an alignment mark on a first edge of a source die, the second alignment mark being an alignment mark on a target wafer, and the first direction being substantially parallel to the first edge of the source die.
An optical assembly (100) for use in a wearable device is provided, the assembly (100) comprising: a prism (104), a photonic integrated chip, PIC (108), a substrate layer (106), and a lid (102); wherein the PIC (108) is mounted onto the substrate layer (106); the prism (104) comprising: (i) a first input/output surface (112) optically coupled to the PIC (108), and (ii) a second input/output surface (114) optically coupled to the lid (102), the second input/output surface (114) orientated perpendicularly to the first input/output surface (112), and wherein the prism (104) provides an optical path and reflects a percentage of light from the first input/output surface (112) to the second input/output surface (114). Methods of manufacturing such an optical assembly are also provided.
A wafer with a buried V-groove cavity, and a method for fabricating V-grooves. In some embodiments, the method includes bonding a first layer, to a top surface of a substrate, to form a composite wafer, the first layer being composed of a first semiconductor material, the substrate being composed of a second semiconductor material, the top surface of the substrate having a cavity, the cavity including a V-groove.
A minimally invasive spectrophotometric system. In some embodiments, the system includes a minimally invasive device and a spectrophotometer. The spectrophotometer may include: a transmitting fiber, a receiving fiber, and a head. The head of the spectrophotometer may include: a light source connected to the transmitting fiber and a photodetector connected to the receiving fiber. A portion of the transmitting fiber may be in an insertion tube of the minimally invasive device, and a portion of the receiving fiber may be in the insertion tube of the minimally invasive device. The head of the spectrophotometer may occupy a volume of less than 300 cubic centimeters.
A method of testing one or more optoelectronic devices located on respective device coupons. The device coupon(s) are present on a wafer. The method comprises: testing the or each optoelectronic device using a corresponding testing element, the testing element(s) being located on the same wafer as the device coupon(s), by either: in a first testing protocol, operating the optoelectronic device so as to produce an optical output, and detecting the light incident on the testing element from the optoelectronic device under test, or in a second testing protocol, detecting, by the optoelectronic device under test, the light received from the testing element.
A photonic integrated circuit for use in hyperspectral spectroscopy. The photonic integrated circuit comprising: a multi-spectral laser source, configured to produce a multi-spectral optical signal; a modulator, the modulator configured to split the multi-spectral optical signal into a first component and a second component, and apply an up-chirp modulation profile to the first component and a down-chirp modulation profile to the second component; a first transmitter and receiver module, configured to transmit the modulated first component and receive reflections of the first component; and a second transmitter and receiver module, configured to transmit the modulated second component and receive reflections of the second component.
Echelle gratings with a shared free propagation region. In some embodiments, a system includes: a first echelle grating; and a second echelle grating. The first echelle grating may include: a first input waveguide having an end on a first Rowland circle; a first grating on the first Rowland circle; and a first output waveguide having an end on the first Rowland circle. The second echelle grating may include: a second input waveguide having an end on a second Rowland circle; a second grating on the second Rowland circle; and a second output waveguide having an end on the second Rowland circle. The second input waveguide may be separate from the first input waveguide, the second output waveguide may be separate from the first output waveguide, and the first Rowland circle may overlap the second Rowland circle.
A system and method for calibrating speckle-based sensor. In some embodiments, the system includes a wearable device including: a laser, an array detector; and a processing circuit, the processing circuit being configured to: obtain a calibration of the array detector, using an incoherent light source; obtain a speckle image, using the laser; and calculate a corrected speckle-based measurement, the corrected speckle-based measurement being based on the speckle image and on the calibration.
A system including an optical transmitter. In some embodiments, the system includes: a first array of lasers; a first wavelength multiplexer, connected to the first array of lasers; a first coupler, connected to the wavelength multiplexer; and a first wavelength meter, connected to a first output of the first coupler.
G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
G01J 9/02 - Mesure du déphasage des rayons lumineuxRecherche du degré de cohérenceMesure de la longueur d'onde des rayons lumineux par des méthodes interférométriques
Dialysis patients may be affected by renal failure and may be affected by other health conditions, such as hypertension. During and between dialysis sessions, it may be advantageous to monitor various characteristics of the patient and of the dialysis system. As such, a system and method for dialysis biomarker monitoring is provided.
Dialysis patients may be affected by renal failure and may be affected by other health conditions, such as hypertension. During and between dialysis sessions, it may be advantageous to monitor various characteristics of the patient and of the dialysis system. As such, a system and method for dialysis biomarker monitoring is provided.
A semiconductor package. In some embodiments, the package has a top surface and a bottom surface, and includes: a semiconductor die having a front surface, a back surface, and a plurality of edges; a mold compound, on the back surface of the die and the edges of the die; a plurality of first conductive elements extending through the mold compound on the back surface of the die to the top surface of the package; and a plurality of second conductive elements on the bottom surface of the package.
H01L 23/31 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements caractérisées par leur disposition
H01L 23/29 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements caractérisées par le matériau
H01L 21/48 - Fabrication ou traitement de parties, p. ex. de conteneurs, avant l'assemblage des dispositifs, en utilisant des procédés non couverts par l'un uniquement des groupes ou
H01L 23/498 - Connexions électriques sur des substrats isolants
H01L 27/08 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type
H01L 21/822 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant un semi-conducteur, en utilisant une technologie au silicium
H01L 21/56 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements
The present invention provides a laser comprising a laser cavity defined by a first reflector and a second reflector. The laser cavity comprising a gain region and an intracavity modulation stage for reducing coherence of the laser output. The intracavity modulation stage comprises a region configured to support a plurality of optical modes. The second reflector is a broadband reflector having a reflectance spectrum configured to support the plurality of optical modes.
A waveguide structure. In some embodiments, the waveguide structure, includes: a first waveguide (105), a second waveguide (120), and a third waveguide (125) on a substrate (115). The first waveguide (105) may be at a different height than the second waveguide (120). The waveguides may be configured to cause light to couple between the first waveguide (105) and the second waveguide (120), and between the second waveguide (120) and the third waveguide (125). The first, second, and third waveguides (105, 120, 125) may be composed of respective materials having a first index of refraction, a second index of refraction, and a third index of refraction respectively. The third material may include silicon and nitrogen. The second index of refraction may be greater than the first index of refraction, and less than the third index of refraction.
An optoelectronic device. The device comprising: an input waveguide, which receives an optical signal; a multistage photodiode detector, comprising a plurality of photodiode elements connected in series, one of the photodiode elements of the plurality of photodiode elements being connected to the input waveguide and configured to receive the optical signal therefrom; and a first electrode and a second electrode, wherein the first electrode is connected to a first contact of each of the plurality of photodiode elements, and the second electrode is connected to a second contact of each of the plurality of photodiode elements.
An optoelectronic device. The device comprises: a silicon-on-insulator platform, including a silicon waveguide, formed in a silicon device layer, a silicon substrate, and a cavity; a III-V semiconductor based device, located within the cavity of the silicon-on-insulator platform and containing a III-V semiconductor based waveguide which is coupled to the silicon waveguide. A region of a bed of the cavity, located between the III-V semiconductor based device and the substrate, includes a patterned surface, which is configured to interact with an optical signal within the III-V semiconductor based waveguide of the III-V semiconductor based device.
G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
G02B 6/122 - Éléments optiques de base, p. ex. voies de guidage de la lumière
G02B 6/136 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication par gravure
A system with a deformable membrane for speckle mitigation. In some embodiments, the system includes a laser for producing laser light; a photodetector for detecting the laser light after interaction of the laser light with a sample; and a silicon deformable membrane, for modulating the phase of the laser light.
The invention refers to a photonic integrated circuit (PIC), the photonic integrated circuit comprising: at least one laser, the laser having a laser output, a measuring portion including a measuring port and configured to measure an intensity and/or wavelength of light input at the measuring port, and an output portion configured to output light from the photonic integrated circuit to the portion of the tissue, wherein optionally the laser includes a ring resonator laser, a laser generating light having a fixed wavelength, a laser being constructed using hybrid integration, and/or a tunable laser.
A61B 5/1455 - Mesure des caractéristiques du sang in vivo, p. ex. de la concentration des gaz dans le sang ou de la valeur du pH du sang en utilisant des capteurs optiques, p. ex. des oxymètres à photométrie spectrale
A61B 5/0205 - Évaluation simultanée de l'état cardio-vasculaire et de l'état d'autres parties du corps, p. ex. de l'état cardiaque et respiratoire
A61B 5/145 - Mesure des caractéristiques du sang in vivo, p. ex. de la concentration des gaz dans le sang ou de la valeur du pH du sang
An optical sensor module for measuring both speckleplethysmography (SPG) and photoplethysmography (PPG) signals at human or animal tissue, the optical sensor module comprising: a first light source, for illuminating the tissue for use with SPG measurements, the first light source comprising a laser; a second light source, for illuminating the tissue for use with PPG measurements; and one or more optical sensor(s) for receiving light from the illuminated tissue.
An optical sensor module for measuring both speckleplethysmography (SPG) and photoplethysmography (PPG) signals at human or animal tissue, the optical sensor module comprising:a first light source, for illuminating the tissue for use with SPG measurements, the first light source comprising a laser; a second light source, for illuminating the tissue for use with PPG measurements; and one or more optical sensor(s) for receiving light from the illuminated tissue.
A laser comprising a photonic component comprising a gain medium; and a waveguide platform comprising a Distributed Bragg Reflector, DBR, section. The photonic component is optically coupled to the waveguide platform. One or more thermal heaters are positioned at the DBR section of the waveguide platform, and/or at a phase section of the waveguide platform located between the gain medium and the DBR section.
A photonic module, comprising a first waveguide; a second waveguide, disposed on an opposing side of the first waveguide to a substrate; and, a coupling section. One of the first waveguide and the second waveguide is formed of crystalline silicon. The other of the first waveguide and the second waveguide is formed of amorphous silicon. The coupling section is configured to couple light between the first waveguide and the second waveguide. Such a silicon photonic module has enhanced coupling and transmission properties in contrast to conventional modules.
G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
G02B 6/136 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication par gravure
G02B 6/122 - Éléments optiques de base, p. ex. voies de guidage de la lumière
A method of manufacturing a transfer die. The manufactured transfer die comprises a semiconductor device suitable for bonding to a silicon-on-insulator wafer. The method comprises the steps of providing a non-conductive isolation region in a semiconductor stack, the semiconductor stack comprising a sacrificial layer above a substrate; and etching an isolation trench into the semiconductor stack from an upper surface thereof, such that the isolation trench extends only to a region of the semiconductor stack above the sacrificial layer. The isolation trench and the non-conductive isolation region together separate a bond pad from a waveguide region in the optoelectronic device.
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
H01L 21/76 - Réalisation de régions isolantes entre les composants
H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
H01L 33/02 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les corps semi-conducteurs
A source wafer for use in a micro-transfer printing process. The source wafer comprising: a wafer substrate; a photonic component, provided in a device coupon, the device coupon being attached to the wafer substrate via a release layer; and one or more etch stop layers, located between the photonic component and the wafer substrate.
B32B 27/02 - Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique sous forme de fibres ou de filaments
B41F 16/00 - Appareils pour imprimer des images-transfert
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
An optical speckle receiver for receiving a speckle signal from a sample, the optical speckle receiver comprising an optical detector and an aperture and/or lens array. The aperture and array respectively comprise a plurality of apertures or lenses and is located between the sample and the optical detector such that the received speckle pattern is obtained from multiple discrete sample locations.
A61B 5/0295 - Mesure du débit sanguin utilisant la pléthysmographie, c.-à-d. par mesure des variations du volume d'une partie du corps induites par la circulation du sang qui traverse cette partie, p. ex. pléthysmographie par impédance
An optoelectronic device. The optoelectronic device including: a silicon platform, including a silicon waveguide and a cavity, wherein a bed of the cavity is provided at least in part by a buried oxide layer; a III-V semiconductor-based optoelectronic component, bonded to a bed of the cavity of the silicon platform; and a bridge-waveguide, located between the silicon waveguide and the III-V semiconductor-based optoelectronic component.
G02B 6/122 - Éléments optiques de base, p. ex. voies de guidage de la lumière
G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
G02B 6/13 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication
G02F 1/025 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur basés sur des éléments à semi-conducteurs ayant des barrières de potentiel, p. ex. une jonction PN ou PIN dans une structure de guide d'ondes optique
A waveguide platform and method of fabricating a waveguide platform on a silicon wafer; the method comprising: providing a wafer having a layer of crystalline silicon; lithographically defining a first region of the top layer; electrochemically etching the waveguide platform to create porous silicon at the lithographically defined first region; epitaxially growing crystalline silicon on top of the porous silicon to create a first upper crystalline layer with a first buried porous silicon region underneath; wherein the first buried porous silicon region defines a taper between a first waveguide region of crystalline silicon having a first depth and a second waveguide region of crystalline silicon having a second depth which is smaller than the first depth.
G02B 6/122 - Éléments optiques de base, p. ex. voies de guidage de la lumière
G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
G02B 6/13 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication
G02B 6/136 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication par gravure
An optical speckle receiver for receiving a speckle signal from a sample, the optical speckle receiver comprising an optical detector and an aperture and/or lens array. The aperture and array respectively comprise a plurality of apertures or lenses and is located between the sample and the optical detector such that the received speckle pattern is obtained from multiple discrete sample locations.
A demultiplexer for use in a wavelength division multiplexed system. The demultiplexer comprises: an input waveguide, configured to receive a wavelength division multiplexed signal; a demultiplexing element, configured to demultiplex the multiplexed signal received from the input waveguide into a plurality of multi-mode demultiplexed signal components; a multi-mode output waveguide, the multi-mode output waveguide being coupled to the demultiplexing element and configured to receive one of the multi-mode demultiplexed signal components; and a splitter, coupled to the multi-mode output waveguide, and configured to split the received multi-mode demultiplexed signal component into two single-mode outputs.
G02B 6/42 - Couplage de guides de lumière avec des éléments opto-électroniques
G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
G02B 6/293 - Moyens de couplage optique ayant des bus de données, c.-à-d. plusieurs guides d'ondes interconnectés et assurant un système bidirectionnel par nature en mélangeant et divisant les signaux avec des moyens de sélection de la longueur d'onde
The present invention provides a photodiode for a wearable sensor system, the photodiode having a rectangular active area sensitive to wavelengths within the spectral range of 1200 nm to 2400 nm. The present invention also provides a wearable sensor system comprising the photodiode.
H01L 31/0352 - Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement e; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails caractérisés par leurs corps semi-conducteurs caractérisés par leur forme ou par les formes, les dimensions relatives ou la disposition des régions semi-conductrices
H01L 31/024 - Dispositions pour le refroidissement, le chauffage, la ventilation ou la compensation de température
A61B 5/00 - Mesure servant à établir un diagnostic Identification des individus
A photonic integrated device comprising: a photonic integrated chip (PIC) adapted to investigate blood flow at a portion of tissue of a user, said PIC comprising: a laser having an optical output, or waveguide for guiding an optical output from an external laser, the optical output being split into a first optical component and a second optical component; wherein the first optical component is arranged to be transmitted to and generate speckle at the portion of tissue of the user; the photonic integrated device further comprising: one or more detectors, each detector configured to receive the speckle generated by the first optical component at the portion of tissue; and one or more optical splitters optically coupling the second optical component to one or more respective input(s) of the one or more detectors; wherein the photonic integrated device is further adapted to measure interference at the one or more detectors between a sample arm formed by the first optical component and a reference arm formed by the second optical component.
A61B 5/00 - Mesure servant à établir un diagnostic Identification des individus
A61B 5/02 - Détection, mesure ou enregistrement en vue de l'évaluation du système cardio-vasculaire, p. ex. mesure du pouls, du rythme cardiaque, de la pression sanguine ou du débit sanguin
41.
System and method for positioning a sensor on a subject
A system and method for positioning a sensor on a subject. In some embodiments, the system includes an instrument holder, the instrument holder being configured to be secured to a subject, and to hold an instrument temporarily.
A source wafer for use in a micro-transfer printing process. The source wafer comprises: a substrate; a device coupon (110), including an optoelectronic device; and a breakable tether securing the device coupon to the substrate. The breakable tether includes one or more breaking regions which connect the breakable tether to the substrate.
A semiconductor photodiode. The semiconductor photodiode including: an input waveguide, arranged to receive an optical signal at a first port and provide the optical signal from the second port; a photodiode waveguide, arranged to receive the optical signal from the second port of the input waveguide, and at least partially convert the optical signal into an electrical signal; and an electro-static defence component, located adjacent to the photodiode waveguide. The electro-static defence component and the photodiode waveguide are electrically connected in parallel.
H01L 31/105 - Dispositifs sensibles au rayonnement infrarouge, visible ou ultraviolet caractérisés par une seule barrière de potentiel ou de surface la barrière de potentiel étant du type PIN
H01L 31/0352 - Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement e; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails caractérisés par leurs corps semi-conducteurs caractérisés par leur forme ou par les formes, les dimensions relatives ou la disposition des régions semi-conductrices
H01L 31/18 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives
G02B 6/42 - Couplage de guides de lumière avec des éléments opto-électroniques
A semiconductor device. In some embodiments, the semiconductor device includes: a first layer having a first region and a second region, the first region being corrugated with a plurality of corrugations, the second region being uncorrugated. A first cycle of the corrugations may have a first duty cycle and a second cycle of the corrugations may have a second duty cycle, the second cycle being between the first cycle and the second region, and the second duty cycle being between the first duty cycle and the duty cycle of the second region.
H01S 5/12 - Structure ou forme du résonateur optique le résonateur ayant une structure périodique, p. ex. dans des lasers à rétroaction répartie [lasers DFB]
H01S 5/22 - Structure ou forme du corps semi-conducteur pour guider l'onde optique ayant une structure à nervures ou à bandes
H01S 5/343 - Structure ou forme de la région activeMatériaux pour la région active comprenant des structures à puits quantiques ou à superréseaux, p. ex. lasers à puits quantique unique [SQW], lasers à plusieurs puits quantiques [MQW] ou lasers à hétérostructure de confinement séparée ayant un indice progressif [GRINSCH] dans des composés AIIIBV, p. ex. laser AlGaAs
An optical multiplexer. The optical multiplexer comprising: a plurality of input waveguides, each comprising an input slab portion and an input rib portion; an output waveguide, comprising an output slab portion and output rib portion; and a wavelength multiplexer element, coupled to each input waveguide and the output waveguide, the wavelength multiplexer element comprising a slab waveguide which includes a grating configured to multiplex signals of differing wavelengths, received from the input waveguides, into a multiplexed signal, and provide the multiplexed signal to the output waveguide. The input rib portion(s) of one or more of the input waveguides are tapered so as to decrease in width in a direction towards the slab waveguide of the wavelength multiplexer element which is an echelle grating or an arrayed waveguide grating.
G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
A laser. In some embodiments, the laser includes an optical amplifier, and an output reflector. The output reflector may be configured to receive light from the optical amplifier and to reflect light at a first wavelength back toward the optical amplifier. The output reflector may include a wavelength-selective element, and a coupler configured to receive the light from the optical amplifier and to couple a portion of the light to the wavelength-selective element.
An optical instrument for determining a wavelength of light generated by a light source. The optical instrument may include a signal generator for generating a driving signal, a tunable optical filter device configured to receive the driving signal, the tunable optical filter device configured to diffract the light generated by the light source based on the driving signal, an optical detector device configured to detect a timing of maximum diffraction of light diffracted by the tunable optical filter device, and an analyzer configured to determine the wavelength of the light based the timing of maximum diffraction.
G02F 1/11 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur basés sur des éléments acousto-optiques, p. ex. en utilisant la diffraction variable par des ondes sonores ou des vibrations mécaniques analogues
G01J 1/42 - Photométrie, p. ex. posemètres photographiques en utilisant des détecteurs électriques de radiations
A method of preparing a device coupon for a micro-transfer printing process from a multi-layered stack located on a device wafer substrate. The multi-layered stack comprises a plurality of semiconductor layers. The method comprises steps of: (a) etching the multi-layered stack to form a multi-layered device coupon, including an optical component; and (b) etching a semiconductor layer of the multi-layered device coupon to form one or more tethers, said tethers securing the multi-layered device coupon to one or more supports.
An optical out-coupler unit for out-coupling light from a waveguide, comprising a substrate having a planar top surface, a waveguide arranged on the top surface of the substrate and having a facet, a reflective surface, wherein the reflective surface is arranged spaced apart from the facet and opposing the facet, wherein the reflective surface is inclined with respect to a normal to the top surface of the substrate by more than 45°. The optical out-coupler may be part of a photonic integrated chip (PIC).
G02B 6/42 - Couplage de guides de lumière avec des éléments opto-électroniques
G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
A bonding fixture. In some embodiments, the fixture includes: a plate for supporting a central region of the wafer, the central region including 80% of the area of the wafer; and a frame for supporting: the edge of the wafer, and the edge of the plate, the frame having: a first vacuum passage, for pulling the wafer against an upper surface of the frame, and a second vacuum passage, for pulling the plate against the frame.
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
A method of transfer printing. The method comprising: providing a precursor photonic device, comprising a substrate and a bonding region, wherein the precursor photonic device includes one or more alignment marks located in or adjacent to the bonding region; providing a transfer die, said transfer die including one or more alignment marks; aligning the one or more alignment marks of the precursor photonic device with the one or more alignment marks of the transfer die; and bonding at least a part of the transfer die to the bonding region.
G02B 6/13 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication
H01L 21/677 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le transport, p. ex. entre différents postes de travail
H01L 21/68 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le positionnement, l'orientation ou l'alignement
H01L 23/544 - Marques appliquées sur le dispositif semi-conducteur, p. ex. marques de repérage, schémas de test
H01L 25/16 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant de types couverts par plusieurs des sous-classes , , , , ou , p. ex. circuit hybrides
G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
52.
OPTOELECTRONIC DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING AN OPTOELECTRONIC DEVICE
An optoelectronic device comprising an optical waveguide formed in a silicon device layer of a silicon-on-insulator wafer. The optical waveguide including a semiconductor junction comprising a first doped region of semiconductor material and a second doped region of semiconductor material. The second doped region containing dopants of a different species to the first doped region. A first portion of the first doped region extends horizontally on top of the second doped region, a second portion of the first doped region extends vertically along a lateral side of the second doped region and a third portion of the first doped region protrudes as a salient from the first or second portion of the first doped region into the second doped region.
G02F 1/025 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur basés sur des éléments à semi-conducteurs ayant des barrières de potentiel, p. ex. une jonction PN ou PIN dans une structure de guide d'ondes optique
G02F 1/225 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur par interférence dans une structure de guide d'ondes optique
H01L 31/0352 - Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement e; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails caractérisés par leurs corps semi-conducteurs caractérisés par leur forme ou par les formes, les dimensions relatives ou la disposition des régions semi-conductrices
A siliconized heterogeneous optical engine. In some embodiments, the siliconized heterogeneous optical engine includes a photonic integrated circuit; an electro-optical chip, on a top surface of the photonic integrated circuit; an electronic integrated circuit, on the top surface of the photonic integrated circuit; an interposer, on the top surface of the photonic integrated circuit; a redistribution layer, on a top surface of the interposer, the redistribution layer including a plurality of conductive traces; and a plurality of protruding conductors, on the conductive traces of the redistribution layer. The electronic integrated circuit may be electrically connected to the electro-optical chip and to a conductive trace of the plurality of conductive traces of the redistribution layer.
H01L 25/16 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant de types couverts par plusieurs des sous-classes , , , , ou , p. ex. circuit hybrides
G02B 6/42 - Couplage de guides de lumière avec des éléments opto-électroniques
A phase shift keying modulator. The modulator comprises: a plurality of silicon waveguides provided in a device layer of a silicon-on-insulator platform, the silicon-on-insulator platform including one or more cavities; one or more III-V semiconductor based devices located within the one or more cavities of the silicon-on-insulator platform, each III-V semiconductor-based device including a III-V semiconductor based waveguide which is coupled at an input end to one of the plurality of silicon waveguides and coupled at an output end to another of the plurality of silicon waveguides, each III-V semiconductor based waveguide comprising an active phase modulating portion; and one or more contacts in electrical contact with each active phase modulating portion, such that the phase shift keying modulator is operable to modulate the phase of an optical wave passing through each active phase modulating portion.
G02F 1/225 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur par interférence dans une structure de guide d'ondes optique
G02F 1/21 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur par interférence
A via frame. In some embodiments, the via frame includes: a sheet of epoxy mold compound, having a plurality of holes each extending through the sheet of epoxy mold compound, and a plurality of conductive elements, each extending through a respective one of the holes.
H01L 23/498 - Connexions électriques sur des substrats isolants
H01L 21/48 - Fabrication ou traitement de parties, p. ex. de conteneurs, avant l'assemblage des dispositifs, en utilisant des procédés non couverts par l'un uniquement des groupes ou
H01L 23/31 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements caractérisées par leur disposition
H05K 3/40 - Fabrication d'éléments imprimés destinés à réaliser des connexions électriques avec ou entre des circuits imprimés
An optical waveguide structure. In some embodiments, the optical waveguide structure includes a semiconductor waveguide having a waveguide ridge, and a heater. The waveguide ridge may have a varying dopant concentration across its cross-section. The heater may include a first contact and a second contact, and the waveguide structure may include a conductive path from the first contact to the second contact, the conductive path extending through a doped portion of the waveguide ridge.
G02B 6/124 - Lentilles géodésiques ou réseaux intégrés
G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
G02F 1/01 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
H01S 5/026 - Composants intégrés monolithiques, p. ex. guides d'ondes, photodétecteurs de surveillance ou dispositifs d'attaque
H01S 5/125 - Lasers à réflecteurs de Bragg répartis [lasers DBR]
H01S 5/06 - Dispositions pour commander les paramètres de sortie du laser, p. ex. en agissant sur le milieu actif
An electro-optical modulator. The electro-optical modulator comprising: an input waveguide, configured to guide light into a modulation region of the electro-optical modulator; a plurality of sub-modulators, within the modulation region, each sub-modulator having a transfer function between an applied voltage and an optical phase shift; and an output waveguide, configured to guide light out of the modulation region. The combination of the transfer functions of each sub-modulator is such that a total transfer function between an applied voltage and an optical phase shift of the modulation region is substantially linear over a range of operating voltages.
G02F 1/225 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur par interférence dans une structure de guide d'ondes optique
G02F 1/21 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur par interférence
A photonic integrated circuit. In some embodiments, the photonic integrated circuit includes: a waveguide; and a waveguide facet, a first end of the waveguide being at the waveguide facet, a first angle being an angle between: the waveguide at the first end of the waveguide and the normal to the waveguide facet, the first angle being at least 5 degrees, a first section of the waveguide having a first end at the waveguide facet and a second end, the first section having: a curvature of less than 0.01/mm at the first end of the first section, a curvature of less than 0.01/mm at the second end of the first section, and a curvature of at least 0.1/mm at a point between the first end and the second end.
G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
2 within the first section; a curvature having a magnitude of at most 0.03/mm at the first end; and a curvature having a magnitude of at least 0.1/mm at the second end.
G02B 6/125 - Courbures, branchements ou intersections
G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
A tapered waveguide. In some embodiments, the waveguide has a narrow end and a wide end. A taper angle of the waveguide may be, at each point along the waveguide, less than an adiabatic taper angle by a margin. The margin may be greater at a first point than at a second point, where the adiabatic taper angle is less at the first point than at the second point.
An imaging component for receiving light, the imaging component comprising a photonic integrated circuit, PIC, receiver, a slab, a wedge, and a lens the wedge having a front surface and an opposing back surface, the imaging component arranged to define a receiving optical path through the front surface of the wedge, the receiving optical path continuing through the wedge and through the slab to the PIC receiver, the lens being configured to focus light of the receiving optical path onto the PIC receiver.
G01S 17/89 - Systèmes lidar, spécialement adaptés pour des applications spécifiques pour la cartographie ou l'imagerie
G02F 1/29 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de la position ou de la direction des rayons lumineux, c.-à-d. déflexion
A MOS capacitor-type optical modulator comprising a silicon-on-insulator (SOI) substrate, a first doped region in a silicon device layer of the SOI substrate, and a second doped region laterally separated from the first doped region by a vertically extending insulator layer to form a lateral MOS capacitor region. The first doped region, second doped region and insulator layer are formed from different materials.
G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
G02F 1/025 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur basés sur des éléments à semi-conducteurs ayant des barrières de potentiel, p. ex. une jonction PN ou PIN dans une structure de guide d'ondes optique
An optoelectronic module. In some embodiments, the optoelectronic module includes a substrate; a digital integrated circuit, on an upper surface of the substrate; a photonic integrated circuit, secured in a pocket of the substrate, the pocket being in the upper surface of the substrate; and an analog integrated circuit, on the photonic integrated circuit.
H01L 31/02 - Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement e; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails - Détails
H01L 23/498 - Connexions électriques sur des substrats isolants
H01L 23/532 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées caractérisées par les matériaux
An optical isolator on a silicon photonic integrated circuit. The optical isolator comprising: a polarization splitter; a polarization rotator; and a Faraday rotator. The Faraday rotator comprises: one or more magnets providing a magnetic field; and a silicon spiral delay line. The silicon spiral delay line being formed from a silicon waveguide shaped into a spiral region having no built-in phase shifters and a central region within the spiral region. The central region having no more than a total of 180 degree of phase shifters.
G02F 1/09 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur basés sur des éléments magnéto-optiques, p. ex. produisant un effet Faraday
G02F 1/095 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur basés sur des éléments magnéto-optiques, p. ex. produisant un effet Faraday dans une structure de guide d'ondes optique
G02F 1/01 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
A metal-oxide semiconductor capacitor, MOSCAP, based electro-optic modulator. The modulator comprising: an input waveguide; a modulating region, coupled to the input waveguide; and an output waveguide, coupled to the modulating region. The modulating region includes an n-i-p-n junction, the n-i-p-n junction comprising: a first n doped region, spaced from a p doped region by an intrinsic region, and a second n doped region, separated from the intrinsic region by the p doped region and on an opposing side of the intrinsic region to the first n doped region.
G02F 1/025 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur basés sur des éléments à semi-conducteurs ayant des barrières de potentiel, p. ex. une jonction PN ou PIN dans une structure de guide d'ondes optique
An optical device. In some embodiments, the device comprises: an input waveguide, configured to receive light; a first electro-absorption modulator, coupled to receive light from the input waveguide, and operable to produce a first output or a second output, wherein the second output has a lower amplitude than the first output; a second electro-absorption modulator, coupled to receive light from the input waveguide, and operable to produce a third output or a fourth output, wherein the fourth output has a lower amplitude than the third output; and an output waveguide, coupled to receive light from the first electro-absorption modulator and the second electro-absorption modulator, and output a combined signal comprising an output of the first electro-absorption modulator and an output of the second electro-absorption modulator.
G02F 1/21 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur par interférence
G02F 1/01 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
G02F 1/225 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur par interférence dans une structure de guide d'ondes optique
A multi-channel laser source, including: a bus waveguide coupled, at an output end of the bus waveguide, to an output of the multi-channel laser source; a first semiconductor optical amplifier; a first back mirror; a first wavelength-dependent coupler, having a first resonant wavelength, on the bus waveguide; a second semiconductor optical amplifier; a second back mirror; and a second wavelength-dependent coupler, on the bus waveguide, having a second resonant wavelength, different from the first resonant wavelength. In some embodiments the first semiconductor optical amplifier is coupled to the bus waveguide by the first wavelength-dependent coupler, which is nearer to the output end of the bus waveguide than the second wavelength-dependent coupler, the second semiconductor optical amplifier is coupled to the bus waveguide by the second wavelength-dependent coupler, and the first wavelength-dependent coupler is configured to transmit light, at the second resonant wavelength, along the bus waveguide.
G02B 6/293 - Moyens de couplage optique ayant des bus de données, c.-à-d. plusieurs guides d'ondes interconnectés et assurant un système bidirectionnel par nature en mélangeant et divisant les signaux avec des moyens de sélection de la longueur d'onde
H01S 5/0683 - Stabilisation des paramètres de sortie du laser en surveillant les paramètres optiques de sortie
An electro-optical package. In some embodiments, the package includes: a carrier; a first integrated circuit, on the carrier; a first bonding layer, between the carrier and the first integrated circuit; a thermoelectric cooler, on the carrier; a second integrated circuit, on the thermoelectric cooler; and a first wire bond. The first wire bond may connect a first pad, on the first integrated circuit, to a second pad, on the second integrated circuit, the first pad and the second pad having a height difference less than 100 microns.
An optoelectronic device, including: a rib waveguide, the rib waveguide including: a ridge portion, which includes a temperature-sensitive optically active region, and a slab portion, positioned adjacent to the ridge portion; the device further comprising a heater, disposed on top of the slab portion wherein a part of the heater closest to ridge portion is at least 2 μm away from the ridge portion. The device may also have a heater provided with a bottom cladding layer, and may also include various thermal insulation enhancing cavities.
G02F 1/01 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
G02F 1/035 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur basés sur des céramiques ou des cristaux électro-optiques, p. ex. produisant un effet Pockels ou un effet Kerr dans une structure de guide d'ondes optique
G02F 1/295 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de la position ou de la direction des rayons lumineux, c.-à-d. déflexion dans une structure de guide d'ondes optique
G02B 6/10 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques
G02F 1/025 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur basés sur des éléments à semi-conducteurs ayant des barrières de potentiel, p. ex. une jonction PN ou PIN dans une structure de guide d'ondes optique
G02F 1/015 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur basés sur des éléments à semi-conducteurs ayant des barrières de potentiel, p. ex. une jonction PN ou PIN
A germanium based avalanche photo-diode device and method of manufacture thereof. The device including: a silicon substrate; a lower doped silicon region, positioned above the substrate; a silicon multiplication region, positioned above the lower doped silicon region; an intermediate doped silicon region, positioned above the silicon multiplication region; a doped germanium interface layer, positioned above the intermediate doped silicon region; an un-doped germanium absorption region, position above the doped germanium interface layer; an upper doped germanium region, positioned above the un-doped germanium absorption region; and an input silicon waveguide; wherein: the un-doped germanium absorption region and the upper doped germanium region form a germanium waveguide which is coupled to the input waveguide, and the device also includes a first electrode and a second electrode, and the first electrode extends laterally to contact the lower doped silicon region and the second electrode extends laterally to contact the upper doped germanium region.
H01L 31/02 - Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement e; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails - Détails
G02B 6/122 - Éléments optiques de base, p. ex. voies de guidage de la lumière
G02B 6/13 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication
G02B 6/136 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication par gravure
H01L 31/0232 - Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement e; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails - Détails Éléments ou dispositions optiques associés au dispositif
H01L 31/028 - Matériaux inorganiques comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des éléments du groupe IV de la classification périodique
H01L 31/107 - Dispositifs sensibles au rayonnement infrarouge, visible ou ultraviolet caractérisés par une seule barrière de potentiel ou de surface la barrière de potentiel fonctionnant en régime d'avalanche, p.ex. photodiode à avalanche
H01L 31/18 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives
G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
A system and method for adjusting the shapes of polygons in a design. In some embodiments, the method includes inverting a first layer of the design, the first layer comprising one or more polygons, the inverting of the first layer forming a region complementary to the union of the polygons of the first layer, and including one or more inverse polygons. The method may further include performing a rounding operation on a first corner of a first inverse polygon of the one or more inverse polygons, to form a modified polygon.
A LiDAR transmitter photonic integrated circuit (PIC) for scanning an environment over a field of view, FOV, the FOV having an azimuthal angular range and a polar angular range, the LiDAR transmitter PIC comprising: a light source for providing light from at least one laser, an optical switch having an input and a plurality of outputs, the optical switch being configured to selectively direct light received at the input to one of the plurality of outputs, and a light emitting component having a plurality of inputs and a plurality of emitters, the light emitting component configured to selectively emit beams over a plurality of emission angles having different respective polar components within the polar angular range of the FOV, wherein the light source is coupled to the input of the optical switch and each of the plurality of outputs of the optical switch is coupled to a respective one of the plurality of inputs of the light emitting component.
An assembly. In some embodiments, the assembly includes a first semiconductor chip, a substrate, and a first alignment element. The alignment of the first semiconductor chip and the substrate may be determined at least in part by engagement of the first alignment element with a first recessed alignment feature, in a surface of the first semiconductor chip.
H01L 23/544 - Marques appliquées sur le dispositif semi-conducteur, p. ex. marques de repérage, schémas de test
H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans une seule des sous-classes , , , , ou , p. ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
An optoelectronic device. The device comprising: a multi-layered optically active stack, including one or more layers comprising a III-V semiconductor material; an input waveguide, arranged to guide light into the stack; and an output waveguide, arranged to guide light out of the stack. The multi-layered optically active stack is butt or edge coupled to the input waveguide and output waveguide.
G02B 6/42 - Couplage de guides de lumière avec des éléments opto-électroniques
G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
G02B 6/136 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication par gravure
G02F 1/017 - Structures avec une variation de potentiel périodique ou quasi périodique, p. ex. superréseaux, puits quantiques
A wavelength-division multiplexing, WDM, receiver, comprising: an input waveguide; and a demultiplexer, connected to the input waveguide. The demultiplexer is configured to: demultiplex a signal received from the input waveguide into a plurality of separate signals, one or more of the separate signals having multiple optical modes, and output each of the plurality of separate signals into respective output waveguides, connected to respective output ports of the demultiplexer. At least one output waveguide, configured to carry one of the separate signals having multiple optical modes, is connected to a respective mode rotator, the or each mode rotator being configured to rotate the multiple optical modes of the respective separate signal received therein. The or each mode rotator is connected to a respective waveguide photodiode, configured to generate a photocurrent from the separate signal received from the respective mode rotator.
A method of manufacturing an optoelectronic device including a mode converter. The method has the steps of: on a first silicon-on-insulator (SOI) wafer, manufacturing the optoelectronic device; and either: on a second SOI wafer, manufacturing a mode converter; and bonding the mode converter to the first SOI wafer; or bonding a second SOI wafer to the first SOI wafer to form a combined wafer; and etching a mode converter into the combined wafer.
An enhanced bandwidth interconnect circuit. In some embodiments the circuit includes a two-terminal device and a network for forming a connection to the two-terminal device. The network may include a first set of coupled transmission lines and a second set of coupled transmission lines. A second end of the first set of coupled transmission lines may be connected to a first end of the second set of coupled transmission lines, and a second end of the second set of coupled transmission lines may be connected to the two-terminal device.
A photonic buried interposer for converting light between a first optical mode of a first optical component and a second optical mode of a second optical component, the second optical component being larger than the first optical component; the buried interposer comprising a bi-layer taper, the bi-layer taper comprising: a top device layer comprising an upper tapered waveguide; and a bottom device layer comprising a lower tapered waveguide; wherein the upper tapered waveguide extends from a first end for coupling to the first optical component to a second end for coupling to the second optical component; and the lower tapered waveguide starts from an intermediate location between the first and second ends and extends from the intermediate location to the second end.
G02B 6/122 - Éléments optiques de base, p. ex. voies de guidage de la lumière
G02B 6/13 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication
G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
A splitter. In some embodiments, the splitter includes an input waveguide; a first output waveguide; a second output waveguide; a first internal waveguide, connected to the input waveguide and to the first output waveguide, and a second internal waveguide, coupled to the first internal waveguide and connected to the second output waveguide. The splitter may be configured, when fed, at the input waveguide, power in a fundamental mode of the input waveguide or power in a first order spatial mode of the input waveguide: to transmit at least 80% of the power in the fundamental mode to the first output waveguide, and to transmit at least 80% of the power in the first order spatial mode to the second output waveguide.
G02B 6/122 - Éléments optiques de base, p. ex. voies de guidage de la lumière
G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
G02B 6/125 - Courbures, branchements ou intersections
G02B 6/126 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré utilisant des effets de polarisation
A device coupon for use in a hybrid integration process with a silicon platform. The device coupon comprises: an input waveguide, including an input facet; an active waveguide, coupled to the input waveguide, the active waveguide including a III-V semiconductor based electro-optical device; and an output waveguide, configured to couple light between the active waveguide and an output facet. The input waveguide and output waveguide are passive waveguides.
G02B 6/125 - Courbures, branchements ou intersections
G02B 6/122 - Éléments optiques de base, p. ex. voies de guidage de la lumière
G02B 6/13 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication
G02B 6/136 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication par gravure
G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
A method of fabricating a device coupon including a waveguide which is suitable for use in a micro-transfer printing process. The method comprises the steps, on a wafer, of: depositing a lower cladding layer on an uppermost surface of the wafer; providing a silicon nitride guiding layer on an uppermost surface of the lower cladding; depositing an upper cladding over at least an uppermost surface of the silicon nitride guiding layer; providing a tether over the coupon, and etching away a region of the uppermost layer of the wafer located between the lower cladding layer and a substrate of the wafer, thereby leaving the lower cladding layer, silicon nitride guiding layer, and upper cladding layer suspended above the wafer via the tether.
G02B 6/10 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques
G02B 6/136 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication par gravure
G02B 6/122 - Éléments optiques de base, p. ex. voies de guidage de la lumière
G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
B41F 16/00 - Appareils pour imprimer des images-transfert
G02B 6/132 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication par le dépôt de couches minces
G02B 6/42 - Couplage de guides de lumière avec des éléments opto-électroniques
G02B 6/43 - Dispositions comprenant une série d'éléments opto-électroniques et d'interconnexions optiques associées
H01L 21/56 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements
H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
A multi-path interference filter. The multi-path interference filter includes a first port waveguide, a second port waveguide, and an optical structure connecting the first port waveguide and the second port waveguide. The optical structure has a first optical path from the first port waveguide to the second port waveguide, and a second optical path, different from the first optical path, from the first port waveguide to the second port waveguide. The first optical path has a portion, having a first length, within hydrogenated amorphous silicon. The second optical path has a portion, having a second length, within crystalline silicon, and the second optical path has either no portion within hydrogenated amorphous silicon, or a portion, having a third length, within hydrogenated amorphous silicon, the third length being less than the first length.
G02B 6/293 - Moyens de couplage optique ayant des bus de données, c.-à-d. plusieurs guides d'ondes interconnectés et assurant un système bidirectionnel par nature en mélangeant et divisant les signaux avec des moyens de sélection de la longueur d'onde
G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
An optoelectronic device. The optoelectronic device comprising: a rib waveguide provided on a substrate of the device, the rib waveguide comprising a ridge portion and a slab portion; a heater, disposed within the slab portion; a thermally isolating trench, adjacent to the rib waveguide, and extending into the substrate of the device; and a thermally isolating cavity within the substrate, which is directly connected to the thermally isolating trench, and which extends across at least a part of a width of the rib waveguide between the rib waveguide and the substrate.
G02F 1/01 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
G02F 1/025 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur basés sur des éléments à semi-conducteurs ayant des barrières de potentiel, p. ex. une jonction PN ou PIN dans une structure de guide d'ondes optique
84.
Integrated III-V / silicon optoelectronic device and method of manufacture thereof
An optoelectronic device. The optoelectronic device comprising: a silicon-on-insulator platform, including: a silicon waveguide located within a silicon device layer of the platform, a substrate, and an insulator layer between the substrate and the silicon device layer; and a III-V semiconductor based device, located within a cavity of the silicon-on-insulator platform and including a III-V semiconductor based waveguide, coupled to the silicon waveguide; wherein the III-V semiconductor based device includes a heater and one or more electrical traces, connected to the heater, wherein the one or more electrical traces extend from the III-V semiconductor based device to respective contact pads on the silicon-on-insulator platform.
G02F 1/025 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur basés sur des éléments à semi-conducteurs ayant des barrières de potentiel, p. ex. une jonction PN ou PIN dans une structure de guide d'ondes optique
G02F 1/01 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
A method of transfer printing. The method comprising: providing a precursor photonic device, comprising a substrate and a bonding region, wherein the precursor photonic device includes one or more alignment marks located in or adjacent to the bonding region; providing a transfer die, said transfer die including one or more alignment marks; aligning the one or more alignment marks of the precursor photonic device with the one or more alignment marks of the transfer die; and bonding at least a part of the transfer die to the bonding region.
G02B 6/42 - Couplage de guides de lumière avec des éléments opto-électroniques
G02B 6/136 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication par gravure
H01S 5/02326 - Dispositions pour le positionnement relatif des diodes laser et des composants optiques, p. ex. rainures dans le support pour fixer des fibres optiques ou des lentilles
A germanium based avalanche photo-diode device and method of manufacture thereof. The device including: a silicon substrate; a lower doped silicon region, positioned above the substrate; a silicon multiplication region, positioned above the lower doped silicon region; an intermediate doped silicon region, positioned above the silicon multiplication region; an un-doped germanium absorption region, position above the intermediate doped silicon region; an upper doped germanium region, positioned above the un-doped germanium absorption region; and an input silicon waveguide; wherein: the un-doped germanium absorption region and the upper doped germanium region form a germanium waveguide which is coupled to the input waveguide, and the device also includes a first electrode and a second electrode, and the first electrode extends laterally to contact the lower doped silicon region and the second electrode extends laterally to contact the upper doped germanium region.
H01L 31/10 - Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement e; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails dans lesquels le rayonnement commande le flux de courant à travers le dispositif, p.ex. photo-résistances caractérisés par au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. photo-transistors
H01L 31/107 - Dispositifs sensibles au rayonnement infrarouge, visible ou ultraviolet caractérisés par une seule barrière de potentiel ou de surface la barrière de potentiel fonctionnant en régime d'avalanche, p.ex. photodiode à avalanche
H01L 31/0232 - Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement e; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails - Détails Éléments ou dispositions optiques associés au dispositif
H01L 31/028 - Matériaux inorganiques comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des éléments du groupe IV de la classification périodique
H01L 31/18 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
87.
III-V/SI hybrid optoelectronic device and method of manufacture
A method of manufacturing an electro-optically active device. The method comprising the steps of: etching a cavity on a silicon-on-insulator wafer; providing a sacrificial layer adjacent to a substrate of a lll-V semiconductor wafer; epitaxially growing an electro-optically active structure on the lll-V semiconductor wafer; etching the epitaxially grown optically active structure into an electro-optically active mesa; disposing the electro-optically active mesa in the cavity of the silicon-on-insulator wafer and bonding a surface of the electro-optically active mesa, which is distal to the sacrificial layer, to a bed of the cavity; and removing the sacrificial layer between the substrate of the lll-V semiconductor wafer and the electro-optically active mesa.
G02F 1/025 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur basés sur des éléments à semi-conducteurs ayant des barrières de potentiel, p. ex. une jonction PN ou PIN dans une structure de guide d'ondes optique
H01L 33/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails
H01L 33/30 - Matériaux de la région électroluminescente contenant uniquement des éléments du groupe III et du groupe V de la classification périodique
H01L 33/58 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails caractérisés par les éléments du boîtier des corps semi-conducteurs Éléments de mise en forme du champ optique
G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
88.
Method of manufacturing a III-V based optoelectronic device
A method of manufacturing a III-V based optoelectronic device on a silicon-on-insulator wafer. The silicon-on-insulator wafer comprises a silicon device layer, a substrate, and an insulator layer between the substrate and silicon device layer. The method includes the steps of: providing a device coupon, the device coupon being formed of a plurality of III-V based layers; providing the silicon-on-insulator wafer, the wafer including a cavity with a bonding region; transfer printing the device coupon into the cavity, and bonding a layer of the device coupon to the bonding region, such that a channel is left around one or more lateral sides of the device coupon; filling the channel with a bridge-waveguide material; and performing one or more etching steps on the device coupon, silicon-on-insulator wafer, and/or channel.
H01S 5/02 - Détails ou composants structurels non essentiels au fonctionnement laser
H01S 5/125 - Lasers à réflecteurs de Bragg répartis [lasers DBR]
H01S 5/026 - Composants intégrés monolithiques, p. ex. guides d'ondes, photodétecteurs de surveillance ou dispositifs d'attaque
H01S 5/22 - Structure ou forme du corps semi-conducteur pour guider l'onde optique ayant une structure à nervures ou à bandes
H01S 5/02326 - Dispositions pour le positionnement relatif des diodes laser et des composants optiques, p. ex. rainures dans le support pour fixer des fibres optiques ou des lentilles
H01S 5/20 - Structure ou forme du corps semi-conducteur pour guider l'onde optique
H01L 33/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails
A method of fabricating an optoelectronic component within a silicon-on-insulator substrate, the method comprising: providing a silicon-on-insulator (SOI) substrate, the SOI substrate comprising a silicon base layer, a buried oxide (BOX) layer on top of the base layer, and a silicon device layer on top of the BOX layer; etching a first cavity region into the SOI substrate and etching a second cavity region into the SOI substrate, the first cavity region having a first depth and the second cavity region having a second depth, the second depth being greater than the first depth; depositing a multistack epi layer into the first and the second cavity regions simultaneously, the multistack epi layer comprising a first multistack portion comprising a first active region and a second multistack portion comprising a second active region.
H01S 5/02 - Détails ou composants structurels non essentiels au fonctionnement laser
H01S 5/183 - Lasers à émission de surface [lasers SE], p. ex. comportant à la fois des cavités horizontales et verticales comportant uniquement des cavités verticales, p. ex. lasers à émission de surface à cavité verticale [VCSEL]
H01S 5/20 - Structure ou forme du corps semi-conducteur pour guider l'onde optique
H01S 5/22 - Structure ou forme du corps semi-conducteur pour guider l'onde optique ayant une structure à nervures ou à bandes
H01S 5/026 - Composants intégrés monolithiques, p. ex. guides d'ondes, photodétecteurs de surveillance ou dispositifs d'attaque
H01S 5/32 - Structure ou forme de la région activeMatériaux pour la région active comprenant des jonctions PN, p. ex. hétérostructures ou doubles hétérostructures
H01S 5/30 - Structure ou forme de la région activeMatériaux pour la région active
90.
Faceplate pluggable remote laser source and system incorporating same
A faceplate pluggable remote laser source and system incorporating such a laser source. The system may include an enclosure having a faceplate; a first optical connector, in the faceplate; a laser module; and a loopback fiber cable, connected between the laser module and the first optical connector. The faceplate may form an exterior boundary of the enclosure. The laser module may have a first end including an electrical interface, and a second end including an optical interface. The first end of the laser module may be engaged in a receptacle in the faceplate, and the second end of the laser module may extend outside the faceplate. The laser module may be configured to receive electrical power through the electrical interface, and to produce unmodulated light at the optical interface. The loopback fiber cable and the first optical connector may be configured to route the unmodulated light back into the enclosure.
A silicon photonic integrated circuit with a heater. In some embodiments, the silicon photonic integrated circuit includes a first waveguide, on a top surface of the silicon integrated circuit, and a heater element, on the first waveguide. The heater element may include a first metal layer, on the first waveguide, and a second metal layer, on the first metal layer, the second metal layer having a different composition than the first metal layer, the second layer having a thickness of less than 300 nm.
G02F 1/01 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
A silicon based electro-optically active device and method of producing the same. The silicon based electro-optically active device comprising: a silicon-on-insulator (SOI) waveguide; an electro-optically active waveguide including an electro-optically active stack within a cavity of the SOI waveguide; and a lined channel between the electro-optically active stack and the SOI waveguide, the lined channel comprising a liner; wherein the lined channel is filled with a filling material with a refractive index similar to that of a material forming a sidewall of the cavity, to thereby form a bridge-waveguide in the channel between the SOI waveguide and the electro-optically active stack.
An optoelectronic module. In some embodiments, the module includes: a housing, a substantially planar subcarrier, a photonic integrated circuit, and an analog electronic integrated circuit. The subcarrier has a thermal conductivity greater than 10 W/m/K. The photonic integrated circuit and the analog electronic integrated circuit are secured to a first side of the subcarrier, and the subcarrier is secured to a first wall of the housing. A second side of the subcarrier, opposite the first side of the subcarrier, is parallel to, secured to, and in thermal contact with, an interior side of the first wall of the housing.
G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
G02B 6/42 - Couplage de guides de lumière avec des éléments opto-électroniques
H01L 25/16 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant de types couverts par plusieurs des sous-classes , , , , ou , p. ex. circuit hybrides
H04B 10/25 - Dispositions spécifiques à la transmission par fibres
A light ranging and detection system achieving reconfigurable very wide field of view, high sampling of spatial points per second with high optical power handling by using architecture to efficiently combine different wavelengths, time and frequency coding, and spatial selectivity. The transmitter is capable of generating multiple narrow beams, encoding different beams and transmitting in different spatial directions. The receiver can differentiate and extract range and reflectivity information of reflected beams. Three dimensional imaging of the environment is achieved by scanning the field of view of the transmitter. Control and signal processing electronic circuitries fabricated in a chip are packaged together with a chip containing the photonic components of the ranging system. The light ranging and detection system generates a THz beam in addition to an optical beam, and both beams combined allow reconfigurable spectroscopy.
G01N 21/3581 - CouleurPropriétés spectrales, c.-à-d. comparaison de l'effet du matériau sur la lumière pour plusieurs longueurs d'ondes ou plusieurs bandes de longueurs d'ondes différentes en recherchant l'effet relatif du matériau pour les longueurs d'ondes caractéristiques d'éléments ou de molécules spécifiques, p. ex. spectrométrie d'absorption atomique en utilisant la lumière infrarouge en utilisant la lumière de l'infrarouge lointainCouleurPropriétés spectrales, c.-à-d. comparaison de l'effet du matériau sur la lumière pour plusieurs longueurs d'ondes ou plusieurs bandes de longueurs d'ondes différentes en recherchant l'effet relatif du matériau pour les longueurs d'ondes caractéristiques d'éléments ou de molécules spécifiques, p. ex. spectrométrie d'absorption atomique en utilisant la lumière infrarouge en utilisant un rayonnement térahertz
G01S 17/42 - Mesure simultanée de la distance et d'autres coordonnées
G01S 17/89 - Systèmes lidar, spécialement adaptés pour des applications spécifiques pour la cartographie ou l'imagerie
A Distributed Feedback Laser (DFB) mounted on a Silicon Photonic Integrated Circuit (Si PIC), the DFB having a longitudinal length which extends from a first end of the DFB laser to a second end of the DFB laser, the DFB laser comprising: an epi stack, the epi stack comprising: one or more active material layers; a layer comprising a partial grating, the partial grating extending from the second end of the DFB laser, only partially along the longitudinal length of the DFB laser such that it does not extend to the first end of the DFB laser; a highly reflective medium located at the first end of the DFB laser; and a back facet located at the second end of the DFB laser.
G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
A MOS capacitor-type optical modulator and method of fabricating a MOS capacitor-type optical modulator, wherein the MOS capacitor-type optical modulator has a MOS capacitor region which comprises an insulator formed of an epitaxially grown crystalline rare earth oxide (REO).
G02F 1/025 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur basés sur des éléments à semi-conducteurs ayant des barrières de potentiel, p. ex. une jonction PN ou PIN dans une structure de guide d'ondes optique
A discrete wavelength tunable laser having an optical cavity which comprises: a reflective semiconductor optical amplifier (SOA); a demultiplexer (Demux) having a single input and a plurality of outputs, the Demux configured to receive the output of the SOA and to produce a plurality of fixed spectral passbands within the gain bandwidth of the SOA; one or more tunable distributed Bragg reflector(s) (DBR(s)) arranged to receive the outputs of the Demux, each tunable DBR configured to select a reflective spectral band within the gain bandwidth of the SOA upon application of a bias current; wherein the SOA forms the back end mirror of the optical cavity; the one or more tunable DBRs form the front end mirror of the optical cavity; and wherein the lasing channel of the discrete wavelength tunable laser is chosen by the overlap of the selected reflective spectral band of one of the one or more tunable DBRs with a fixed spectral passband of the Demux.
H01S 5/10 - Structure ou forme du résonateur optique
H01S 5/125 - Lasers à réflecteurs de Bragg répartis [lasers DBR]
H01S 5/026 - Composants intégrés monolithiques, p. ex. guides d'ondes, photodétecteurs de surveillance ou dispositifs d'attaque
H01S 5/068 - Stabilisation des paramètres de sortie du laser
H01S 5/50 - Structures amplificatrices non prévues dans les groupes
H01S 5/12 - Structure ou forme du résonateur optique le résonateur ayant une structure périodique, p. ex. dans des lasers à rétroaction répartie [lasers DFB]
H01S 5/40 - Agencement de plusieurs lasers à semi-conducteurs, non prévu dans les groupes
An optical fiber adapter and method of fabricating the same from a wafer including a double silicon-on-insulator layer structure. The optical fiber adapter may include a mode converter, a trench, and a V-groove, the V-groove and the trench operating as passive alignment features for an optical fiber, in the transverse translational and rotational degrees of freedom, and in the longitudinal translational degree of freedom, respectively. The mode converter may include a buried tapered waveguide.
H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
G02B 6/136 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication par gravure
G02B 6/13 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication
H01L 21/8258 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant un semi-conducteur, en utilisant une combinaison de technologies couvertes par les groupes , , ou
G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
G02B 6/30 - Moyens de couplage optique pour usage entre fibre et dispositif à couche mince
G02B 6/42 - Couplage de guides de lumière avec des éléments opto-électroniques
G02B 6/122 - Éléments optiques de base, p. ex. voies de guidage de la lumière
A light ranging and detection system achieving reconfigurable very wide field of view, high sampling of spatial points per second with high optical power handling by using architecture to efficiently combine different wavelengths, time and frequency coding, and spatial selectivity. The transmitter is capable of generating multiple narrow beams, encoding different beams and transmitting in different spatial directions. The receiver can differentiate and extract range and reflectivity information of reflected beams. Three dimensional imaging of the environment is achieved by scanning the field of view of the transmitter. Control and signal processing electronic circuitries fabricated in a chip are packaged together with a chip containing the photonic components of the ranging system. The light ranging and detection system generates a THz beam in addition to an optical beam, and both beams combined allow reconfigurable spectroscopy.
G01N 21/35 - CouleurPropriétés spectrales, c.-à-d. comparaison de l'effet du matériau sur la lumière pour plusieurs longueurs d'ondes ou plusieurs bandes de longueurs d'ondes différentes en recherchant l'effet relatif du matériau pour les longueurs d'ondes caractéristiques d'éléments ou de molécules spécifiques, p. ex. spectrométrie d'absorption atomique en utilisant la lumière infrarouge
G01N 21/3581 - CouleurPropriétés spectrales, c.-à-d. comparaison de l'effet du matériau sur la lumière pour plusieurs longueurs d'ondes ou plusieurs bandes de longueurs d'ondes différentes en recherchant l'effet relatif du matériau pour les longueurs d'ondes caractéristiques d'éléments ou de molécules spécifiques, p. ex. spectrométrie d'absorption atomique en utilisant la lumière infrarouge en utilisant la lumière de l'infrarouge lointainCouleurPropriétés spectrales, c.-à-d. comparaison de l'effet du matériau sur la lumière pour plusieurs longueurs d'ondes ou plusieurs bandes de longueurs d'ondes différentes en recherchant l'effet relatif du matériau pour les longueurs d'ondes caractéristiques d'éléments ou de molécules spécifiques, p. ex. spectrométrie d'absorption atomique en utilisant la lumière infrarouge en utilisant un rayonnement térahertz
G01S 17/89 - Systèmes lidar, spécialement adaptés pour des applications spécifiques pour la cartographie ou l'imagerie
G01S 17/42 - Mesure simultanée de la distance et d'autres coordonnées
An optoelectronic device, and a method of fabricating an optoelectronic device. The device comprising: a rib waveguide formed of doped silicon, said doped waveguide having a ridge portion, containing an uppermost surface and two sidewall surfaces; and a slab portion, adjacent to the two sidewall surfaces. The device further comprises: a metal contact layer, which directly abuts the uppermost surface and two sidewall surfaces, and which extends along a part of the slab portion so as to provide a Schottky barrier between the metal contact layer and the rib waveguide.
H01L 31/108 - Dispositifs sensibles au rayonnement infrarouge, visible ou ultraviolet caractérisés par une seule barrière de potentiel ou de surface la barrière de potentiel étant du type Schottky
H01L 31/0232 - Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement e; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails - Détails Éléments ou dispositions optiques associés au dispositif
H01L 31/18 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives
brevets
