- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/20 - ExpositionAppareillages à cet effet
Détention brevets de la classe G03F 7/20
Brevets de cette classe: 21097
Historique des publications depuis 10 ans
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1684
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1810
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1994
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2156
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1993
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1651
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1623
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1400
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897
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184
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| 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| ASML Netherlands B.V. | 7221 |
3908 |
| Carl Zeiss SMT GmbH | 2857 |
1739 |
| Nikon Corporation | 7124 |
1172 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 41144 |
1070 |
| FUJIFILM Corporation | 28939 |
996 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5505 |
484 |
| Applied Materials, Inc. | 18040 |
405 |
| Canon Inc. | 38656 |
378 |
| JSR Corporation | 2492 |
372 |
| KLA-Tencor Corporation | 2548 |
349 |
| ASML Holding N.V. | 517 |
340 |
| Gigaphoton Inc. | 1196 |
334 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1510 |
330 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 140839 |
320 |
| Tokyo Electron Limited | 12255 |
296 |
| Carl Zeiss SMT AG | 239 |
210 |
| KLA Corporation | 1438 |
203 |
| Nissan Chemical Corporation | 1907 |
163 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 39594 |
152 |
| International Business Machines Corporation | 60411 |
130 |
| Autres propriétaires | 7746 |