- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C07F - Composés acycliques, carbocycliques ou hétérocycliques contenant des éléments autres que le carbone, l'hydrogène, les halogènes, l'oxygène, l'azote, le soufre, le sélénium ou le tellure
- C07F 7/18 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si ainsi qu'une ou plusieurs liaisons C—O—Si
Détention brevets de la classe C07F 7/18
Brevets de cette classe: 3028
Historique des publications depuis 10 ans
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6
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5830 |
156 |
| Wacker Chemie AG | 2104 |
74 |
| LG Chem, Ltd. | 17710 |
69 |
| Daikin Industries, Ltd. | 10188 |
64 |
| Evonik Operations GmbH | 4179 |
62 |
| Agc, Inc. | 5098 |
59 |
| Momentive Performance Materials Inc. | 892 |
57 |
| Dow Silicones Corporation | 2004 |
49 |
| 3m Innovative Properties Company | 17617 |
48 |
| Versum Materials US, LLC | 655 |
30 |
| Henkel AG & Co. KGaA | 10661 |
29 |
| Citibank, N.A., AS Administrative Agent | 266 |
29 |
| Nissan Chemical Industries, Ltd. | 1691 |
24 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 9120 |
23 |
| Dow Corning Corporation | 942 |
23 |
| The Regents of the University of California | 20327 |
22 |
| Evonik Degussa GmbH | 1446 |
22 |
| Centre National de La Recherche Scientifique | 10760 |
21 |
| Merck Patent GmbH | 5731 |
20 |
| FUJIFILM Corporation | 29976 |
20 |
| Autres propriétaires | 2127 |